[发明专利]光学盖板的制作方法、光学盖板和穿戴设备有效
申请号: | 202110697884.0 | 申请日: | 2021-06-23 |
公开(公告)号: | CN113437181B | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 黎宇;唐中帜 | 申请(专利权)人: | OPPO广东移动通信有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L25/16;H01L31/0203;A61B5/00;A61B5/024 |
代理公司: | 北京知帆远景知识产权代理有限公司 11890 | 代理人: | 吴文婧 |
地址: | 523860 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 盖板 制作方法 穿戴 设备 | ||
1.一种光学盖板的制作方法,所述光学盖板用于穿戴设备,其特征在于,所述制作方法包括:
将带有第一阻隔层和第二阻隔层的玻璃基板置入还原性气氛的炉中进行热处理以对所述玻璃基板进行黑化;所述第一阻隔层和所述第二阻隔层间隔设置;
去除所述第一阻隔层和所述第二阻隔层以使所述玻璃基板形成黑化区、第一透光区和第二透光区;其中,所述第一透光区和所述第二透光区间隔,所述第一透光区域与所述第一阻隔层相对应,所述第二透光区域与所述第二阻隔层相对应,所述黑化区环绕所述第一透光区和所述第二透光区;
所述还原性气氛的还原气体包括H2、CO、CH4、NO和C2H2中的至少一种,或者包括H2、CO、CH4、NO和C2H2中的至少一种与N2或者Ar气的混合气体;
所述玻璃基板中掺杂有三氧化二锑、氧化铅、二氧化锡、三氧化硒、氧化钯、氧化碲、三氧化二铑中的至少一种组分。
2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述玻璃基板包括本体和间隔凸设在所述本体上的第一凸部和第二凸部,所述第一凸部作为所述第一阻隔层,所述第二凸部作为所述第二阻隔层;
所述去除所述第一阻隔层和所述第二阻隔层以形成黑化区、第一透光区和第二透光区,包括:
去除所述第一凸部和所述第二凸部以使所述玻璃基板形成所述黑化区、所述第一透光区和所述第二透光区;所述黑化区为所述本体除去与所述第一凸部和所述第二凸部对应部分之外的区域。
3.根据权利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述本体包括相背的第一表面和第二表面,在所述第一表面和所述第二表面上均形成有第一凸部和第二凸部,所述第一表面上的第一凸部与所述第二表面上的第一凸部对称,所述第一表面上的第二凸部与所述第二表面上的第二凸部对称;
其中,所述第一凸部和所述第二凸部的高度均大于或者等于所述本体的单边黑化厚度,所述单边黑化厚度为所述第一表面朝所述第二表面所在一侧的黑化厚度或者所述第二表面朝所述第一表面所在一侧的黑化厚度。
4.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,所述单边黑化厚度为0.1-1mm。
5.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,所述本体的厚度小于所述单边黑化厚度的两倍。
6.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,在所述将带有第一阻隔层和第二阻隔层的玻璃基板置入还原性气氛的炉中进行热处理以对所述玻璃基板进行黑化之前,所述制作方法还包括:
提供一玻璃基板;
在所述玻璃基板上形成所述第一阻隔层和所述第二阻隔层;所述第一阻隔层和所述第二阻隔层的材质不同于所述玻璃基板的材质。
7.根据权利要求6所述的制作方法,其特征在于,所述第一阻隔层和所述第二阻隔层包括金属涂层和陶瓷涂层中的至少一种。
8.根据权利要求1-7任一项所述的制作方法,其特征在于,对所述玻璃基板进行热处理的温度为400-800℃,所述还原性气氛的压力为0.01-100MPa。
9.根据权利要求1-7任一项所述的制作方法,其特征在于,对所述玻璃基板进行热处理的时间为0.5-500h。
10.根据权利要求1-7任一项所述的制作方法,其特征在于,在所述去除所述第一阻隔层和所述第二阻隔层以形成黑化区、第一透光区和第二透光区的步骤之前,所述制作方法还包括:
对所述玻璃基板进行退火处理。
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