[发明专利]湿制工艺模块和操作方法

说明书

一种用于处理衬底(特别是晶片)的湿制工艺模块(10)，特别是涂漆模块，其具有工艺室(12)，该工艺室包括用于处理衬底的工艺釜(24)、用于将空气供应到工艺室(12)中的空气入口(16)、至少一个旁路出口(38)和至少一个工艺釜出口(36)。至少一个旁路出口(38)和至少一个工艺釜出口(36)是用于将空气排出工艺室(12)的空气出口。此外，至少一个工艺釜出口(36)设置在工艺釜(24)中，并且至少一个旁路出口(38)设置在工艺釜(24)的外部。此外，示出了操作这种湿制工艺模块(10)的方法。

技术领域

本发明涉及一种湿制工艺模块，尤其涉及用于处理衬底的涂漆模块，以及操作这种湿制工艺模块的方法。

背景技术

湿制工艺模块是已知的，并且包括具有工艺釜(process pot)的工艺室，在工艺釜中用液体(通常是漆(lacquer))处理衬底。在操作期间，经调节的空气流动通过工艺室，经调节的空气在特定的温度和湿度下经由供应单元流动到工艺室中，并经由抽取管线排出。根据应用，在处理工艺期间，需要流动通过工艺室的不同体积流量的空气。

这通常会导致系统的其他模块处的体积流量上的波动，因为所有模块通常都连接到公共的空气供应管线和/或公共的抽取管线。此外，空气供应和空气排出的波动(特别是由于调节不充分或缺少调节)将影响工艺条件。

发明内容

本发明的目的是提供一种湿制工艺模块，其确保改善的工艺环境，并因此确保更高质量或更少浪费的产品。本发明的目的还在于提供一种操作这种湿制工艺模块的方法。

为了实现该目的，提供了一种湿制工艺模块，特别是涂漆模块，其用于处理衬底，特别是晶片。湿制工艺模块包括工艺室，该工艺室具有用于处理衬底的工艺釜、用于将空气供应到工艺室中的空气入口、至少一个旁路出口和至少一个工艺釜出口。至少一个旁路出口和至少一个工艺釜出口是用于从工艺室排出空气的空气出口。此外，至少一个工艺釜出口设置在工艺釜的区域中，并且至少一个旁路出口设置在工艺釜的外部。以这种方式，工艺室中的空气可以通过至少一个工艺釜出口(并因此通过工艺釜)，和通过至少一个旁路出口(并因此越过工艺釜，即不通过工艺釜)流出工艺室。旁路出口因此形成旁路，经由该旁路空气流动可以被引导越过工艺釜。由于这种设计，通过至少一个工艺釜出口经由工艺釜流出工艺室的空气的体积流量可以通过经由旁路流出工艺室的体积流量来调节。因此，湿制工艺模块可以始终抽取相同体积流量的空气，从而防止其他湿制工艺模块的波动。

特别地，空气入口和至少一个旁路出口之间的流动连接始终在工艺釜外部延行。

例如，空气由供应单元经由空气入口供应到工艺室中。

湿制工艺模块可以具有联接到空气入口的扩散器，空气经由该扩散器以分布式方式流动到工艺室的内部中。以这种方式，可以产生进入工艺室的均匀的、特别是层流的一定体积流量的空气。

替代地或附加地，可以提供联接到空气入口的过滤器，通过该过滤器，流动到工艺室中的空气被净化。这样，可以减少或防止颗粒对工艺室的污染。

例如，过滤器在流动方向上位于扩散器的前方。

也可以设置成将过滤器集成在扩散器中，反之亦然。换句话说，过滤器可以具有空气分配功能，或者扩散器可以具有过滤功能。

在一个实施例中，一方面空气入口和另一方面空气出口设置在工艺室的不同侧，特别是相对侧。附加地或替代地，至少一个工艺釜出口和至少一个旁路出口可以设置在工艺室的同一侧上。因此确保了工艺室中特别有利的流动模式。

空气入口可以设置在工艺室的顶部上和/或至少一个工艺釜出口和至少一个旁路出口可以设置在工艺室的底部上。

还可以设置的是，至少一个旁路出口至少部分地围绕工艺釜以环形形状延伸，和/或设置围绕工艺釜布置的多个旁路出口。其优点在于，在围绕工艺釜的几个点处，空气可以经由旁路流出工艺室，从而在工艺室中形成一定流动模式，这确保了特别好的工艺环境。