[发明专利]湿制工艺模块和操作方法

权利要求书

1.一种用于处理衬底、尤其是晶片的湿制工艺模块、尤其是涂漆模块，包括工艺室(12)，所述工艺室具有用于处理衬底的工艺釜(24)、用于将空气供应到所述工艺室(12)中的空气入口(16)、至少一个旁路出口(38)以及至少一个工艺釜出口(36)，

其中，所述至少一个旁路出口(38)和至少一个工艺釜出口(36)是用于将空气排出所述工艺室(12)的空气出口，并且

其中，所述至少一个工艺釜出口(36)设置在所述工艺釜(24)中，并且所述至少一个旁路出口(38)设置在所述工艺釜(24)的外部。

2.根据权利要求1所述的湿制工艺模块，其特征在于，一方面所述空气入口(16)和另一方面所述空气出口(36，38)设置在所述工艺室(12)的不同侧、特别是相对侧，和/或所述至少一个工艺釜出口(36)和至少一个旁路出口(38)设置在所述工艺室(12)的同一侧。

3.根据权利要求1或2所述的湿制工艺模块，其特征在于，所述至少一个旁路出口(38)至少部分以环形形状围绕所述工艺釜(24)延伸，和/或设置有多个围绕所述工艺釜(24)布置的旁路出口(38)。

4.根据权利要求1所述的湿制工艺模块，其特征在于，所述湿制工艺模块(10)具有压力传感器(54)，所述压力传感器被构造为确定所述工艺室(12)中的空气压力。

5.根据权利要求1所述的湿制工艺模块，其特征在于，所述湿制工艺模块(10)包括排放空气设备(14)，所述排放空气设备具有至少一个工艺釜通道(40)和至少一个旁路通道(42)，其中，所述至少一个工艺釜通道(40)从所述至少一个工艺釜出口(36)延伸，并且所述至少一个旁路通道(42)从所述至少一个旁路出口(38)延伸。

6.根据权利要求5所述的湿制工艺模块，其特征在于，在所述至少一个旁路通道(42)中设置有调节装置(56)、特别是节流阀，借助所述调节装置，能够调节流动能够通过的旁路通道(42)的横截面。

7.根据权利要求6所述的湿制工艺模块，其特征在于，所述湿制工艺模块(10)具有控制单元(52)，所述控制单元连接到所述湿制工艺模块的所述调节装置(56)和/或供应单元(15)，并且所述控制单元被布置成控制或调节所述调节装置(56)和/或供应单元(15)、特别是根据所述工艺室(12)中的空气压力和/或当前的工艺步骤。

8.根据权利要求5所述的湿制工艺模块，其特征在于，所述至少一个工艺釜通道(40)流体连接到所述至少一个旁路通道(42)、特别是在所述旁路通道(42)的调节装置(56)的下游。

9.根据权利要求5所述的湿制工艺模块，其特征在于，所述至少一个工艺釜通道(40)具有漆捕捉部(50)和/或没有调节装置(56)。

10.操作根据权利要求1所述的湿制工艺模块(10)的方法，包括以下步骤：

a)将已知的、特别是恒定的体积流量的空气通过所述空气入口(16)送入到所述工艺室(12)中，以及

b)经由闭环或开环来控制通过至少一个旁路出口(38)离开所述工艺室(12)的空气的体积流量。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，通过所述至少一个旁路出口(38)离开所述工艺室(12)的空气的体积流量由所述至少一个旁路通道(42)中的调节装置(56)经由闭环或开环来控制。

12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，流动通过的至少一个工艺釜通道(40)的横截面没有有源地改变。

13.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，调节所述工艺室(12)中的空气压力，使得所述工艺室(12)中存在过压。

14.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，经由所述排放空气设备(14)从所述工艺室(12)抽取已知的、特别是恒定的体积流量的空气，特别是由所述排放空气设备(14)抽取的体积流量小于供应到所述工艺室(12)的空气的体积流量。