[发明专利]检查装置及其检查方法在审
| 申请号： | 202110697365.4 | 申请日： | 2019-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN113432542A | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 本脇淑雄 | 申请（专利权）人： | 发那科株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 刘煜 |
| 地址： | 日本国山梨县南都留*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 检查 装置 及其 方法 | ||
1.一种检查装置，其对具有基板和涂层的检查对象物进行检查，所述涂层形成在所述基板的表面上，所述检查装置的特征在于，具备：
多个发光部，它们对所述涂层照射截面为环形的光；
拍摄部，其拍摄所述涂层所反射的反射光；
计数部，其根据所述拍摄部所拍摄到的图像，对圆形或椭圆的光像的每单位面积的个数进行计数；以及
厚度判定部，其基于所述计数部所计数到的所述圆形或椭圆的光像的个数，判定所述涂层的厚度的优劣。
2.根据权利要求1所述的检查装置，其特征在于，
所述计数部对与标准像的类似度成为规定的类似度阈值以上的所述圆形或椭圆的光像的每单位面积的个数进行计数。
3.根据权利要求1所述的检查装置，其特征在于，
所述厚度判定部在所述计数部所计数到的所述圆形或椭圆的光像的个数为阈值以上的情况下判定所述涂层的厚度为良好，在所述计数部所计数到的所述圆形或椭圆的光像的个数低于所述阈值的情况下，判定所述涂层的厚度为不良。
4.一种检查方法，其为对具有基板和涂层的检查对象物进行检查的检查装置的检查方法，所述涂层形成在所述基板的表面上，所述检查方法的特征在于，包括：
照射步骤，从多个发光部对所述涂层照射截面为环形的光；
拍摄步骤，拍摄所述涂层所反射的反射光；
计数步骤，根据在所述拍摄步骤中拍摄到的图像，对圆形或椭圆的光像的每单位面积的个数进行计数；以及
厚度判定步骤，基于在所述计数步骤中计数到的所述圆形或椭圆的光像的个数，判定所述涂层的厚度的优劣。
5.根据权利要求4所述的检查方法，其特征在于，
在所述计数步骤中，对与标准像的类似度成为规定的类似度阈值以上的所述圆形或椭圆的光像的每单位面积的个数进行计数。
6.根据权利要求4所述的检查方法，其特征在于，
在所述厚度判定步骤中，在所述计数步骤中计数到的所述圆形或椭圆的光像的个数为阈值以上的情况下，判定所述涂层的厚度为良好，在所述计数步骤中计数到的所述圆形或椭圆的光像的个数低于所述阈值的情况下，判定所述涂层的厚度为不良。
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