[发明专利]掩模板、成型方法以及形成OLED阴极图案的方法

说明书

本发明涉及一种掩模板、成型方法以及形成OLED阴极图案的方法，掩模板包括：掩模板本体，包括图案蒸镀区，图案蒸镀区内设置有多个蒸镀开孔，掩模板本体具有形成图案蒸镀区以及蒸镀开孔的壁面；钝化层，掩模板本体的至少部分壁面上覆盖有钝化层。本发明实施例提供的掩模板，掩模板能够降低或者避免清洗液的腐蚀，能够被多次重复利用，使用寿命高。

技术领域

本发明涉及蒸镀设备技术领域，尤其涉及一种掩模板、成型方法以及形成OLED阴极图案的方法。

背景技术

在显示技术领域中，掩模板能够用于按需成型显示面板相应的层结构，应用十分广泛，尤其对于高精度金属掩模板(Fine Metal Mask，FMM)，通过FMM蒸镀阴极进行图形化，去除部分区域的阴极，可以提升屏体的光透过率，改善屏下摄像头的拍照效果。

FMM在使用一段时间后需要对其进行清洗，以去除表面蒸镀粘附的材料，实现FMM的循环使用。然而，对于蒸镀了OLED的阴极金属银的FMM在清洗时，由于金属银的稳定性相对制作FMM的材质铁更高，能够腐蚀并清洗金属银的清洗液对FMM材料也存在严重的腐蚀作用，使得FMM的使用寿命降低，甚至直接报废。

发明内容

本发明实施例提供一种掩模板、成型方法以及形成OLED阴极图案的方法，掩模板能够降低或者避免清洗液的腐蚀，能够被多次重复利用，使用寿命高。

一方面，根据本发明实施例提出了一种掩模板，包括：掩模板本体，包括图案蒸镀区，图案蒸镀区内设置有多个蒸镀开孔，掩模板本体具有形成图案蒸镀区以及蒸镀开孔的壁面；钝化层，掩模板本体的至少部分壁面上覆盖有钝化层。

根据本发明实施例的一个方面，钝化层的耐腐蚀性能大于掩模板本体的耐腐蚀性能，能够保护掩模板本体在进行金属银的清洗过程中免受金属银清洗液的腐蚀。

根据本发明实施例的一个方面，壁面包括顶壁、底壁以及围合形成各蒸镀开孔的孔壁，顶壁以及底壁在掩模板本体的厚度方向上相对设置，蒸镀开孔在厚度方向上贯穿顶壁以及底壁，所述孔壁上覆盖有钝化层。

根据本发明实施例的一个方面，所述顶壁和底壁的至少一者上覆盖有钝化层。

根据本发明实施例的一个方面，顶壁以及底壁上分别覆盖有钝化层。

根据本发明实施例的一个方面，底壁上覆盖的钝化层的厚度大于顶壁覆盖的钝化层的厚度。

根据本发明实施例的一个方面，钝化层的膜层厚度的取值范围为10nm～1000nm。

根据本发明实施例的一个方面，钝化层包括无机氧化物和/或无机氮化物。

根据本发明实施例的一个方面，钝化层包括氧化硅、氮化硅以及氧化铝中的至少一者。

另一个方面，根据本发明实施例提供一种掩模板的成型方法，包括：

提供掩模板本体，掩模板本体包括图案蒸镀区，图案蒸镀区内设置有多个蒸镀开孔，掩模板本体具有形成图案蒸镀区以及蒸镀开孔的壁面；

在至少部分壁面上形成钝化层。

根据本发明实施例的另一个方面，在壁面的各处采用原子层沉积、蒸镀、化学气相沉积以及物理气相沉积方式中的任意一种或两种及以上的方式形成钝化层。

又一个方面，根据本发明实施例提供一种形成OLED阴极图案的方法，包括：

提供设置有发光层的阵列基板，发光层包括阵列分布的发光单元；

在发光层背离阵列基板的一侧设置上述的掩模板，每个掩模板的开口与其中一个发光单元相对设置；

在预定条件下，利用掩模板并在通过蒸镀工艺形成阴极层，阴极层包括阵列分布的阴极单元，每个阴极单元与其中一个发光单元相对设置。