[发明专利]应用于柔性基材的硬化膜及其制备方法和产品在审
申请号: | 202110693694.1 | 申请日: | 2021-06-22 |
公开(公告)号: | CN115513396A | 公开(公告)日: | 2022-12-23 |
发明(设计)人: | 宗坚 | 申请(专利权)人: | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32;G09F9/30 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 214000 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 应用于 柔性 基材 硬化 及其 制备 方法 产品 | ||
1.应用于柔性基材的硬化膜,用于在一柔性基材的表面形成,其特征在于,其中所述硬化膜包括:
一硬化涂层,其中所述硬化涂层由被涂覆于该柔性基材的表面的硬化胶水固化而成;和
一硬化膜层,其中所述硬化膜层是以碳源气体为反应原料,通过等离子体增强化学气相沉积法在所述硬化涂层的表面形成的纳米膜层。
2.如权利要求1所述的应用于柔性基材的硬化膜,其中,所述硬化胶水的成分包括按照预定比例混合的聚氨酯改性丙烯酸酯、聚醚型丙烯酸酯以及聚己内酯改性丙烯酸酯。
3.如权利要求2所述的应用于柔性基材的硬化膜,其中,所述硬化胶水通过辊涂或喷涂工艺被涂覆于该柔性基材的表面。
4.如权利要求1所述的应用于柔性基材的硬化膜,其中,所述硬化涂层的厚度为3um至30um。
5.如权利要求1至4中任一所述的应用于柔性基材的硬化膜,其中,所述硬化膜层为DLC纳米膜,该柔性基材为柔性显示器件或透明塑料薄膜。
6.如权利要求5所述的应用于柔性基材的硬化膜,其中,所述碳源气体选自甲烷、丙烷、乙炔以及苯中的一种或多种。
7.如权利要求5所述的应用于柔性基材的硬化膜,其中,所述硬化膜层的厚度为5nm至30nm。
8.应用于柔性基材的硬化膜的制备方法,其特征在于,包括步骤:
涂覆硬化胶水于柔性基材的表面,以在该柔性基材的表面固化形成一硬化涂层;和
通过等离子体增强化学气相沉积法,以碳源气体为反应原料在该硬化涂层的表面沉积形成一硬化膜层。
9.如权利要求8所述的应用于柔性基材的硬化膜的制备方法,其中,所述涂覆硬化胶水于柔性基材的表面,以在该柔性基材的表面固化形成一硬化涂层的步骤,包括步骤:
对均匀地涂布于该柔性基材的表面的该硬化胶水进行热干燥;和
对热干燥后的该硬化胶水进行UV固化,使得该硬化胶水发生交联反应以固化成该硬化涂层。
10.如权利要求9所述的应用于柔性基材的硬化膜的制备方法,其中,在热干燥步骤中的加热温度为80℃至120℃,加热时间为2min至10min。
11.如权利要求10所述的应用于柔性基材的硬化膜的制备方法,其中,UV固化条件为:辐照能量为300mJ/cm2至1000mJ/cm2,膜面温度为40℃至60℃。
12.如权利要求8至11所述的应用于柔性基材的硬化膜的制备方法,其中,所述通过等离子体增强化学气相沉积法,以碳源气体为反应原料在该硬化涂层的表面沉积形成一硬化膜层的步骤,包括步骤:
在将涂覆有该硬化涂层的该柔性基材放置于PECVD装置的反应腔室后,通入惰性气体,以利用辉光放电产生的等离子体对该硬化涂层的表面进行等离子清洗;和
在等离子清洗完毕后,通入该碳源气体,以通过该等离子体增强化学气相沉积法在该硬化涂层的表面沉积形成该硬化膜层。
13.如权利要求12所述的应用于柔性基材的硬化膜的制备方法,其中,在等离子清洗步骤中,该惰性气体的通入流量为30sccm至500sccm;该反应腔室的压力为0.5Pa至10Pa;直流偏压设为200V至600V;放电频率设为100Hz至300Hz;反向时间设为0.4us至2us;清洗时间为2min至30min。
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