[发明专利]一种用于单分子DNA拉伸的磁控分子梳方法

权利要求书

1.一种用于单分子DNA拉伸的磁控分子梳方法，其特征在于，包括如下步骤：

将含有磁性颗粒的DNA溶液滴加至基底；

利用磁控驱动磁性颗粒以带动DNA液滴移动；

其中，所述DNA液滴移动的过程中，移动的气液固界面将吸附在基底上的单分子DNA拉伸。

2.根据权利要求1所述的一种用于单分子DNA拉伸的磁控分子梳方法，其特征在于：所述的磁性颗粒为铁粉、四氧化三铁磁性微球、脲醛树脂磁性微球、聚苯乙烯磁性微球、二氧化硅磁性微球和g-三氧化二铁微球中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的一种用于单分子DNA拉伸的磁控分子梳方法，其特征在于：所述的基底为疏水性修饰基底和正电荷修饰基底中的一种或多种。

4.根据权利要求3所述的一种用于单分子DNA拉伸的磁控分子梳方法，其特征在于：所述基底的疏水性修饰方法为硅烷化分子熏蒸修饰、疏水聚合物旋涂修饰中的一种或多种。

5.根据权利要求4所述的一种用于单分子DNA拉伸的磁控分子梳方法，其特征在于：所述硅烷化分子熏蒸修饰中的硅烷化分子为三甲基氯硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、三甲基氯硅烷中的一种或多种；所述疏水聚合物旋涂修饰中的疏水聚合物为聚甲基内烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷、聚苯乙烯、高定向热解石墨、石墨烯、氧化石墨烯、聚四氟乙烯、ZEONEX中的一种或多种。

6.根据权利要求3所述的一种用于单分子DNA拉伸的磁控分子梳方法，其特征在于：所述正电荷修饰基底的正电荷修饰方法为涂覆多聚赖氨酸、APES硅化、正电荷吸附(Zn²⁺、Mg²⁺、Co³⁺等)中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的一种用于单分子DNA拉伸的磁控分子梳方法，其特征在于：所述利用磁控驱动磁性颗粒具体为：用移动的磁场驱动DNA液滴中掺混的磁性颗粒，使液滴定向移动，从而利用运动的气液固界面将DNA定向拉伸为直线状；其中，所述移动的磁场为通过移动永磁体、磁感线圈产生的移动磁场中的一种或多种。

8.根据权利要求1所述的一种用于单分子DNA拉伸的磁控分子梳方法，其特征在于：所述吸附在基底上的单分子DNA的吸附方式为DNA端部解螺旋暴露的疏水碱基与疏水基底的结合吸附或DNA带负电的磷酸骨架与带正电荷的基底的静电吸附中的一种或多种。

9.根据权利要求8所述的一种用于单分子DNA拉伸的磁控分子梳方法，其特征在于：解螺旋暴露出DNA端部所述疏水碱基的方法包括使用DNA解旋酶、加热、调控溶液的pH值中的一种或多种；其中，所述pH值为3～11。

10.根据权利要求1所述的一种用于单分子DNA拉伸的磁控分子梳方法，其特征在于：所述的气液固界面的移动速度为100μm/s～1cm/s。