[发明专利]一种冷却系统有效
申请号: | 202110666277.8 | 申请日: | 2021-06-16 |
公开(公告)号: | CN113432378B | 公开(公告)日: | 2022-06-03 |
发明(设计)人: | 王明磊;钱东;沈玉柱 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | F25D31/00 | 分类号: | F25D31/00;F25D17/02;B08B3/04 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 高洁;张颖玲 |
地址: | 430074 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 冷却系统 | ||
本申请实施例提供一种冷却系统,包括工作设备、第一冷却介质源、第二冷却介质源、第一切换组件、第二切换组件以及防错装置,工作设备具有第一入口和第一出口,第一入口通过第一切换组件分别与第一冷却介质源和第二冷却介质源选择性地连通,第一出口通过第二切换组件分别与第一冷却介质源和第二冷却介质源选择性地连通,防错装置分别与第一切换组件和第二切换组件连接以使第一切换组件和第二切换组件联动。由于第一切换组件和第二切换组件联动,第一切换组件和第二切换组件一起切换或者都不切换,能够避免第一入口和第一出口的其中之一与第一冷却介质源连通,其中另一与第二冷却介质源连通,导致第一冷却介质源和第二冷却介质源相互倒灌的问题。
技术领域
本申请涉及半导体技术领域,尤其涉及一种冷却系统。
背景技术
在晶圆的加工过程中,需要对晶圆进行清洗。通常将晶圆传送至清洗机台,通过清洗机台内的清洗剂对晶圆进行清洗,清洗剂中的某些化学物质对低温温度要求比较严格,需要提供冷却水对构成清洗剂的部分化学物质进行冷却,往往采用机台水冷机组作为冷却水的主要供给装置,当机台水冷机组无法提供冷却水,为了能使清洗机台继续对晶圆进行清洗,一般将厂务水冷机组作为备用冷却水源向清洗机台提供冷却水。因此,当机台水冷机组无法提供冷却水,需要对厂务水冷机组和机台水冷机组进行切换。相关技术中,对厂务水冷机组和机台水冷机组进行切换可能引起厂务水冷机组和机台水冷机组之间发生较为严重的倒灌。
发明内容
有鉴于此,本申请实施例期望提供一种冷却系统,以缓解厂务水冷机组和机台水冷机组之间发生的倒灌。
为达到上述目的,本申请实施例提供一种冷却系统,包括工作设备、第一冷却介质源、第二冷却介质源、第一切换组件、第二切换组件以及防错装置,所述工作设备具有第一入口和第一出口,所述第一入口通过所述第一切换组件分别与所述第一冷却介质源和所述第二冷却介质源选择性地连通,所述第一出口通过所述第二切换组件分别与第一冷却介质源和所述第二冷却介质源选择性地连通,所述防错装置分别与所述第一切换组件和所述第二切换组件连接以使所述第一切换组件和所述第二切换组件联动。
一实施例中,所述第一切换组件为第一阀门,所述第二切换组件为第二阀门。
一实施例中,所述第一阀门具有第一操作装置,所述第一操作装置配置为驱动所述第一阀门的阀芯动作,所述第二阀门具有第二操作装置,所述第二操作装置配置为驱动所述第二阀门的阀芯动作;所述防错装置分别与所述第一操作装置和所述第二操作装置连接以使所述第一操作装置和所述第二操作装置联动。
一实施例中,所述第一操作装置为绕第一转动中心线转动的第一手柄,所述第二操作装置为绕第二转动中心线转动的第二手柄,所述防错装置分别与所述第一手柄和所述第二手柄转动连接以使所述第一手柄和所述第二手柄联动,所述防错装置与所述第一手柄在第一位置处转动连接,所述第一位置与所述第一转动中心线之间间隔第一预设距离,所述防错装置与所述第二手柄在第二位置处转动连接,所述第二位置与所述第二转动中心线之间间隔第二预设距离。
一实施例中,所述第一位置位于第一手柄端部,所述第二位置位于所述第二手柄的端部。
一实施例中,所述防错装置为连杆,所述连杆的两端均形成有球头;所述第一手柄形成有第一球窝,所述连杆其中一端的球头位于所述第一球窝内;所述第二手柄形成有第二球窝,所述连杆另一端的球头位于所述第二球窝内。
一实施例中,所述第一阀门具有第一端口、第二端口以及第三端口,所述第一端口与所述第一冷却介质源连通,所述第二端口与所述第一入口连通,所述第三端口与所述第二冷却介质源连通,所述第二端口分别与所述第一端口和所述第三端口选择性地连通;所述第二阀门具有第四端口、第五端口以及第六端口,所述第四端口与所述第一冷却介质源连通,所述第五端口与所述第一出口连通,所述第六端口与所述第二冷却介质源连通,所述第五端口分别与所述第四端口和所述第六端口选择性地连通。
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