[发明专利]一种椭圆形碳化硅石墨坩埚及制备工艺

说明书

本发明提出了一种椭圆形碳化硅石墨坩埚的制备工艺，涉及熔炼坩埚领域。一种椭圆形碳化硅石墨坩埚的制备工艺包括以下步骤：S1，在混炼机内加入质量比为35％‑45％的石墨、38％‑48％的的碳化硅、7％‑27％的添加剂；S2，将S1中的混合物料填充在模具内，对模具进行密封，密封后的模具放入冷等静压机内进行打压；S3，将打压后的模具取出拆卸，并去除产品毛坯上口边缘处多余的毛刺；S4，将产品毛坯放入固化窑内进行干燥；S5，将干燥好的产品毛坯涂上抗氧化涂层；S6，产品毛坯进行煅烧成型加工。制成的坩埚具有导热性能好的优点。一种椭圆形碳化硅石墨坩埚，包括基于上述制备工艺制备的坩埚，上述坩埚内设置有调节板。该坩埚解决了坩埚内的金属液不易舀取的问题。

技术领域

本发明涉及熔炼坩埚技术领域，具体而言，涉及一种椭圆形碳化硅石墨坩埚及制备工艺。

背景技术

坩埚是熔化和精炼金属液体以及固液加热、反应的容器。

熔炼所使用的坩埚主要有铸铁坩埚(铸铁坩埚是生铁翻铸而成，用于熔化铝合金、锌合金、铅合金、锡合金、锑合金等金属的皿器，比铁坩埚更加耐用。)、石英坩埚(石英坩埚可在1650度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅，是发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今，世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明石英坩埚。它具有高纯度、耐温性强、尺寸大、精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。)和瓷坩埚(主要成分:氧化铝(45-55％)、二氧化硅，可耐热1200度左右使用，适用于K2S2O7等酸性物质熔融样品，一般不能用于以NaOH、Na2O2、Na2CO3等碱性物质作熔剂熔融，以免腐蚀瓷坩埚。瓷坩埚不能和氢氟酸接触)、石墨坩埚和碳化硅坩埚等。

在废铝(铝和其它金属杂质)和废铜(铜和其它金属杂质)的回收工艺中，需要将废铝和废铜进行熔炼回收，提纯铝单质或铜单质。在熔铜和熔铝的加工工艺中，通常采用粘土石墨坩埚进行废铝和废铜的熔炼，但是坩埚存在导热慢的缺点，在进行熔炼时，耗能较高。且在熔炼后，坩埚内的金属溶液含有较多漂浮杂质，存在金属液不易舀取的问题。

综上所述，我们提出了一种椭圆形碳化硅石墨坩埚及制备工艺解决上述技术问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种椭圆形碳化硅石墨坩埚的制备工艺，制成的坩埚具有导热性能好的优点。

本发明的另一目的在于提供一种椭圆形碳化硅石墨坩埚，解决了坩埚内的金属液不易舀取的问题。

本发明的实施例是这样实现的：

第一方面，本申请实施例提供一种椭圆形碳化硅石墨坩埚的制备工艺，包括以下步骤：

S1，在混炼机内加入质量比为35％-45％的石墨、38％-48％的的碳化硅、7％-27％的添加剂混合制成物料；

S2，将上述混炼机制成的混合物料填充在模具内，对模具进行密封，密封后的模具放入冷等静压机内进行打压；

S3，将打压后的模具取出拆卸，取出产品毛坯，并去除产品毛坯上口边缘处多余的毛刺；

S4，将车床加工后的产品毛坯放入固化窑内进行干燥；

S5，将干燥好的产品毛坯取出后，使用毛刷手工将产品表面涂上抗氧化涂层；

S6，将涂有抗氧化层的产品毛坯进行煅烧成型加工。

在本发明的一些实施例中，步骤1)中，在上述混合物料填充在模具前，装入塑料桶，且将上述塑料桶放置在室温为25摄氏度的恒温室内保温。

在本发明的一些实施例中，上述混合物料装入塑料桶前进行干燥。

在本发明的一些实施例中，还包括成型料仓，上述恒温室内的混合物料通过送料机提升到上述成型料仓内，再将上述成型料仓内的混合原料装入上述模具。