[发明专利]基于过渡金属膜层的可见光宽带完美吸收器及制备方法

权利要求书

1.基于过渡金属膜层的可见光宽带完美吸收器，其特征在于包括：基底，以及在基底上设置的平面多层结构；

平面多层结构自下而上依次配置：高反射金属膜层、透明电介质中间层、过渡金属膜层及透明电介质顶层；

所述的平面多层结构的等效光学导纳等于空气的光学导纳值。

2.根据权利要求1所述的基于过渡金属膜层的可见光宽带完美吸收器，其特征在于，

所述基底的材料为任意表面平整的硬性基底或柔性基底，

所述过渡金属膜层的厚度不超过10nm。

3.根据权利要求1所述的基于过渡金属膜层的可见光宽带完美吸收器，其特征在于：还包括：

粘附层，其介于高反射金属膜层与透明电介质中间层之间，所述粘附层材质包括：金属Ti。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的基于过渡金属膜层的可见光宽带完美吸收器，其特征在于，

所述高反射金属膜层的材质选自金、铬和铝中的至少一种，且厚度介于80～100nm。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的基于过渡金属膜层的可见光宽带完美吸收器，其特征在于：

所述过渡金属膜层选自铬、钛及铂中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的基于过渡金属膜层的可见光宽带完美吸收器，其特征在于：

所述透明电介质中间层和透明电介质顶层为透明电介质材料，其材质分别选自氟化镁和氧化硅中的一种。

7.根据权利要求1所述的基于过渡金属膜层的可见光宽带完美吸收器，其特征在于：

当入射光正入射基于过渡金属膜层的可见光宽带完美吸收器，在波长350～850nm处的平均吸收率99％。

8.根据权利要求7中所述的基于过渡金属膜层的可见光宽带完美吸收器，其特征在于：当入射光入射角度从0°上升至68°时，

在波长400～800nm处的平均吸收率90％。

9.一种如权利要求1所述的基于过渡金属膜层的可见光宽带完美吸收器的制备方法，其特征在于：

以平面多层结构的等效光学导纳等于空气的光学导纳值为优化目标，

利用文化基因算法来设计平面多层结构中各层的材料和厚度；

利用真空镀膜的方式，在基底表面沉积平面多层结构。