[发明专利]肟磺酸酯光产酸剂、含其的抗蚀剂组合物、电子器件及应用在审
| 申请号： | 202110553209.0 | 申请日： | 2021-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN115368340A | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 钱晓春;龚艳;朱烽伟;徐丽萍 | 申请（专利权）人： | 常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司;常州强力光电材料有限公司;泰兴先先化工有限公司 |
| 主分类号： | C07D335/02 | 分类号： | C07D335/02;C07D409/12;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 张美月 |
| 地址： | 213159 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 肟磺酸酯光产酸剂 抗蚀剂 组合 电子器件 应用 | ||
1.一种肟磺酸酯光产酸剂，其特征在于，所述肟磺酸酯光产酸剂包括通式(A)所示的化合物：
其中，R1选自空、C1～C20的直链或支链烷基、C6～C18的芳基、C3～C20取代或未取代的环烷基、C4～C24的杂环基、或者所述C6～C18的芳基中的苯环上至少一个氢原子被C1～C4的烷基、C1～C10的烷氧基、C1～C10的烷硫基、C2～C10的链炔基、C2～C10的链烯基、C1～C8的酰基、C1～C8的酰氧基、C1～C8的氧酰基、氨基、硝基或C6～C18的苯基烷基取代形成的取代基，或与苯环上两个相邻碳原子形成的五元环或六元环的取代基，或C1～C20直链或支链烷基中的-CH2-被-S-、-O-、酰基、酰氧基、氧酰基取代形成的取代基，或C4～C24的杂环基中至少一个氢原子被C1～C10的烷基、C1～C10的烷氧基、C1～C10的烷硫基、C2～C10的链炔基、C2～C10的链烯基、C1～C8的酰基、C1～C8的酰氧基、C1～C8的氧酰基、氨基、硝基或C6～C18的苯基烷基取代形成的取代基；
R2、R3、R4分别独立地选自氢、卤素、氰基、硝基、胺基、C1～C20直链或支链烷基或卤代烷基、C7～C20苯基烷基、C1～C20烷基磺酰基、C6～C18芳基磺酰基、所述C1～C20直链或支链烷基或卤代烷基中的-CH2-被-S-、-O-、酰基或酰氧基取代形成的取代基，或所述C7～C20苯基烷基中的-CH2-被-S-、-O-、酰基或酰氧基取代形成的取代基；
R5选自C1～C20直链或支链的烷基、C3～C20取代或未取代的环烷基、C6～C20芳基或樟脑基，或上述基团中的至少一个氢原子被氟原子取代形成的取代基；
所述L选自O、S、NR6、-N＝C(R’)2或空，所述R6为空、C1～C8直链或支链烷基、苯基或氢。
2.根据权利要求1所述的肟磺酸酯光产酸剂，其特征在于，所述R1选自C1～C12烷基，优选为C1～C8烷基，或上述基团中的-CH2-可以被或中的任意一种所取代。
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