[发明专利]一种晶圆表面清理装置在审
申请号: | 202110549110.3 | 申请日: | 2021-05-20 |
公开(公告)号: | CN115394678A | 公开(公告)日: | 2022-11-25 |
发明(设计)人: | 胡杰 | 申请(专利权)人: | 海太半导体(无锡)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B08B5/04;B08B13/00 |
代理公司: | 无锡市朗高知识产权代理有限公司 32262 | 代理人: | 赵华 |
地址: | 214000 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 表面 清理 装置 | ||
本发明提供一种晶圆表面清理装置,包括清洁外壳,清洁外壳内部设有吸尘管道,吸尘管道的吸附口外侧设有滤网,滤网通过嵌设在清洁外壳内部进行固定,清洁外壳在吸尘管道的吸附口朝向处开设有集尘口,集尘口上设有防触碰圈,集尘口内部前端设有清尘板,清尘板通过固定杆进行固定,集尘口内部后端设有废料收集腔;本发明避免了与晶圆的直接接触,通过吸附的方式可以将残留物去除,同时将颗粒物与灰尘分开,避免堵塞,通过清尘板的清理可以反复利用。
技术领域
本发明主要涉及半导体生产领域,尤其涉及一种晶圆表面清理装置。
背景技术
晶圆在每一步生产加工完成后,表面会残有因加工而产生的遗留物,或者是外部环境带来的外来污染。这些杂志会对后续的加工形成影响,需要清理。但晶圆表面极易被划伤,不能直接接触,所以常规方法难以完成。
发明内容
针对现有技术的上述缺陷,本发明提供一种晶圆表面清理装置,包括清洁外壳1,清洁外壳1内部设有吸尘管道2,吸尘管道2 的吸附口外侧设有滤网3,滤网3通过嵌设在清洁外壳1内部进行固定,清洁外壳1在吸尘管道2的吸附口朝向处开设有集尘口,集尘口上设有防触碰圈4,集尘口内部前端设有清尘板5,清尘板5通过固定杆6进行固定,集尘口内部后端设有废料收集腔7。
优选的,清洁外壳1采用铝合金材质,内部设有集尘区。
优选的,吸尘管道2一端为吸附口,另一端与外部负压产生装置相连。
优选的,滤网3为网罩结构,截面为圆弧形,采用不锈钢材质。
优选的,防触碰圈4为橡胶材质,通过熔融与集尘口固定连接,防触碰圈4的顶部高于清洁外壳1的表面。
优选的,清尘板5靠近集尘口的一面设有凸起,远离集尘口的一面设有避让口,清尘板5通过固定板8和固定杆6的配合进行固定。
优选的,固定杆6一端为直线型,设有螺纹,穿设过清洁外壳1 后通过螺母进行固定,另一端设有折弯,通过清尘板5进行限位。
优选的,废料收集腔7为铝合金材质,通过嵌入的方式与清洁外壳1固定连接。
本发明的有益效果:避免了与晶圆的直接接触,通过吸附的方式可以将残留物去除,同时将颗粒物与灰尘分开,避免堵塞,通过清尘板的清理可以反复利用。
附图说明
图1为本发明的结构图;
图中,
1、清洁外壳;2、吸尘管道;3、滤网;4、防触碰圈;5、清尘板;6、固定杆;7、废料收集腔;8、固定板。
具体实施方式
为了使本技术领域人员更好地理解本发明的技术方案,并使本发明的上述特征、目的以及优点更加清晰易懂,下面结合实施例对本发明做进一步的说明。实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。
如图1所示可知,本发明包括有:清洁外壳1,清洁外壳1 内部设有吸尘管道2,吸尘管道2的吸附口外侧设有滤网3,滤网3 通过嵌设在清洁外壳1内部进行固定,清洁外壳1在吸尘管道2的吸附口朝向处开设有集尘口,集尘口上设有防触碰圈4,集尘口内部前端设有清尘板5,清尘板5通过固定杆6进行固定,集尘口内部后端设有废料收集腔7。
在本实施中优选的,清洁外壳1采用铝合金材质,内部设有集尘区。
设置上述结构,清洁外壳1采用铝合金材质,质量较轻,便于拿取。
在本实施中优选的,吸尘管道2一端为吸附口,另一端与外部负压产生装置相连。
在本实施中优选的,滤网3为网罩结构,截面为圆弧形,采用不锈钢材质。
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