[发明专利]轮廓的确定方法、确定装置、检测设备及存储介质

说明书

本申请公开了一种轮廓的确定方法。本申请实施方式的轮廓的确定方法用于确定图像中目标图形的图形轮廓，轮廓的确定方法包括：依据目标图形的形状信息及初始位置信息，获取目标图形的初始轮廓；分别以初始轮廓上的多个预设点中的每一个为中心，选定多个计算区域；依据每个计算区域中图像像素的特征值的分布信息，确定每个计算区域中的拟合点；及拟合多个计算区域中的拟合点，以获得目标图形的图形轮廓。本申请还公开了一种轮廓的确定装置、检测设备及计算机可读存储介质。

技术领域

本申请涉及工业检测技术领域，特别涉及一种轮廓的确定方法、轮廓的确定装置、检测设备及计算机可读存储介质。

背景技术

半导体产品上一般包括多种特征图案，很多时候需要对产品上的特征图案进行测量，以通过测量特征图案是否符合标准来检测半导体产品是否合格，在这过程中，在图片中准确地确定特征图案的轮廓显得尤为重要。有一些做法是直接通过二值化的方式标记特征图案的轮廓，但二值化的方式对图片的亮度、对比度等要求较高，容易导致标记特征图案的轮廓时准确性不高。

发明内容

本申请实施方式提供了一种轮廓的确定方法、轮廓的确定装置、检测设备及计算机可读存储介质。

本申请实施方式的轮廓的确定方法用于确定图像中目标图形的图形轮廓，所述轮廓的确定方法包括：依据所述目标图形的形状信息及初始位置信息，获取所述目标图形的初始轮廓；分别以所述初始轮廓上的多个预设点中的每一个为中心，选定多个计算区域；依据每个所述计算区域中图像像素的特征值的分布信息，确定每个所述计算区域中的拟合点；及拟合多个所述计算区域中的所述拟合点，以获得所述目标图形的图形轮廓。

在某些实施方式中，所述分别以所述初始轮廓上的多个预设点中的每一个为中心，选定多个计算区域，包括：依据所述初始轮廓在每一个所述预设点上的切线方向，确定与所述预设点对应的偏转方向；分别以每一个所述预设点作为中心，以所述对应的偏转方向设置预设图形；及选定所述预设图形内的区域为所述计算区域。

在某些实施方式中，所述预设图形为矩形，所述分别以每一个所述预设点作为中心，以所述对应的偏转方向设置预设图形，包括：设置所述预设图形的第一边的延伸方向平行于所述切线方向；设置所述预设图形的第二边的一半大于最大偏移量，所述最大偏移量为所述初始轮廓与所述图形轮廓之间的预设最大偏移量；及设置相邻的两个所述预设图形存在重叠区域。

在某些实施方式中，所述依据每个所述计算区域中图像像素的特征值的分布信息，确定每个所述计算区域中的拟合点，包括：在每个所述计算区域中，计算所述像素的特征值沿切线方向的累加值，或累加值的平均值，所述切线方向为所述初始轮廓在所述预设点的切线方向；计算所述累加值或所述平均值沿垂直于所述切线方向的梯度值；及基于所述梯度值确定所述计算区域中的拟合点。

在某些实施方式中，所述基于所述梯度值确定所述计算区域中的拟合点，包括：确定所述梯度值的符号为预设符号，且所述梯度值的绝对值大于梯度阈值的点，为所述计算区域中的拟合点。

在某些实施方式中，所述拟合多个所述计算区域中的所述拟合点，以获得所述目标图形的图形轮廓，包括：拟合多个所述拟合点，以获得所述目标图形的拟合轮廓；计算步骤：分别计算多个所述拟合点到所述拟合轮廓的距离；第一拟合步骤：剔除距离大于预设的距离阈值的所述拟合点，并拟合剩余的所述拟合点以获得新的拟合轮廓；及循环执行所述计算步骤及所述第一拟合步骤预设次数后，以最新的拟合轮廓作为所述图形轮廓。

在某些实施方式中，所述拟合多个所述计算区域中的所述拟合点，以获得所述目标图形的图形轮廓，包括：拟合多个所述拟合点，以获得所述目标图形的拟合轮廓；计算步骤：分别计算多个所述拟合点到所述拟合轮廓的距离；第二拟合步骤：依据所述距离与距离阈值的大小关系，为每个所述拟合点设置拟合权重，依据所述拟合权重，重新拟合多个所述拟合点以获得新的拟合轮廓；及循环执行所述计算步骤及所述第二拟合步骤预设次数后，以最新的拟合轮廓作为所述图形轮廓。