[发明专利]抛光液输送装置和化学机械抛光设备

权利要求书

1.一种抛光液输送装置，其特征在于，包括：

基座，所述基座上设有基座孔；

转轴，所述转轴设在所述基座孔内，且所述转轴设置为在所述基座孔内可选择性地转动；

悬臂，所述悬臂相对于所述转轴可转动地连接在所述转轴上，其内部中空；

抛光液管，所述抛光液管穿过所述基座孔后伸入所述悬臂内，用于输送抛光液；

喷嘴组件，与所述抛光液管连通，所述喷嘴组件包括喷嘴座和设于喷嘴座下方的至少一个喷嘴；

加载模块，用于改变抛光液的物理性质，所述加载模块环绕抛光液管设置以对其中流过的抛光液进行处理、和/或、不同喷嘴处分别设有不同加载模块以实现不同喷淋位置抛光液的不同处理。

2.如权利要求1所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述加载模块为光照单元、调温单元、极化单元、振动加载器和电磁加载器中的至少一种。

3.如权利要求2所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述加载模块为光照单元，所述光照单元环绕所述抛光液管设置以对其中的抛光液进行照射加热并通过控制光照单元照射抛光液的时长来调节抛光液的温度，和/或，不同喷嘴处分别设有光照单元以实现不同喷淋位置抛光液的不同温度控制。

4.如权利要求3所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述抛光液为水基性溶液，所述光照单元为红外线加热管以适用于水基性溶液。

5.如权利要求3所述的抛光液输送装置，其特征在于，还包括设置在所述抛光液管出口端的温度传感器。

6.如权利要求3所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述光照单元设置在所述悬臂内部并被所述悬臂全封闭包围以防止漏光对晶圆造成损伤。

7.如权利要求1所述的抛光液输送装置，其特征在于，喷嘴座固定在悬臂的下表面。

8.如权利要求1所述的抛光液输送装置，其特征在于，还包括套筒，所述套筒可转动地设在所述转轴的外部。

9.如权利要求8所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述套筒和所述转轴之间设有轴承。

10.一种化学机械抛光设备，其特征在于，包括：抛光盘、粘接在抛光盘上的抛光垫、吸附晶圆并带动晶圆旋转的承载头、修整抛光垫的修整器、以及向抛光垫表面提供抛光液的如权利要求1至9任一项所述的抛光液输送装置。