[发明专利]一种显示基板、显示装置和显示基板的制作方法

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括盖板、位于所述盖板上的光汇聚层、位于所述光汇聚层远离所述盖板一侧的多个像素单元，所述光汇聚层靠近所述盖板的一侧包括透镜阵列，所述透镜阵列包括多个透镜单元，每一所述透镜单元与一个或多个所述像素单元相对应。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述透镜单元与相对应的所述像素单元之间的对位精度小于5微米。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，在垂直于所述盖板的方向上，所述透镜阵列与所述像素单元之间的距离小于200微米。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括光传输层，所述光传输层位于所述光汇聚层和所述盖板之间，所述光传输层的折射率小于所述光汇聚层的折射率。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述光汇聚层包括有机基底层，所述光传输层包括第一光学胶层，所述光汇聚层远离所述盖板一侧还包括第二光学胶层，所述第二光学胶层的折射率小于所述有机基底层的折射率。

6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述光汇聚层包括第一光学胶层，所述光传输层包括有机基底层，所述光传输层和所述盖板之间还包括第二光学胶层，所述第二光学胶层的折射率小于所述光汇聚层的折射率。

7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至6中任一项所述的显示基板。

8.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一衬底；

在所述衬底上形成分离层；

在所述分离层上形成光汇聚层，所述光汇聚层朝向所述衬底的一侧包括透镜阵列，所述透镜阵列包括多个透镜单元；

在所述光汇聚层远离所述衬底的一侧制作像素单元，其中，每一所述透镜单元与一个或多个所述像素单元相对应；

将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离；

在所述光汇聚层远离所述像素单元的一侧设置盖板。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述在所述分离层上形成光汇聚层，包括：

在所述分离层上压印出透镜模板；

在所述分离层上形成作为光汇聚层的有机基底层，其中，所述有机基底层朝向所述衬底的一侧形成与所述透镜模板形状匹配的透镜阵列；

所述将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离，包括：

将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离；

所述将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离之后，还包括：

在所述有机基底层远离所述像素单元的一侧形成作为光传输层的第一光学胶层，其中，所述光传输层的折射率小于所述光汇聚层的折射率。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在所述衬底上形成分离层之后，还包括：

在所述分离层上形成有机基底材料；

在所述有机基底材料上压印出透镜模板，使所述有机基底材料形成作为光传输层的有机基底层；

所述在所述分离层上形成光汇聚层，包括：

在所述有机基底层远离所述衬底的一侧形成作为光汇聚层的第一光学胶层，其中，所述光汇聚层朝向所述衬底的一侧形成与所述透镜模板形状匹配的透镜阵列，所述光传输层的折射率小于所述光汇聚层的折射率。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其特征在于，所述在所述分离层上压印出透镜模板的步骤，或者所述在所述有机基底材料上压印出透镜模板的步骤，包括：

在压印透镜模板的同时压印出对位标记；

所述在所述光汇聚层远离所述衬底的一侧制作像素单元，包括：

根据所述对位标记制作像素单元，使得所述透镜单元与相对应的像素单元之间的对位精度小于5微米。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述在压印透镜模板的同时压印出对位标记，包括：

确定透镜阵列与像素单元的相对排列角度；

根据所述排列角度压印透镜模板和对位标记。