[发明专利]一种滤光片及其制备方法、显示装置有效
申请号: | 202110442093.3 | 申请日: | 2021-04-23 |
公开(公告)号: | CN113176625B | 公开(公告)日: | 2023-05-12 |
发明(设计)人: | 周健 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G02B5/18 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 王迪 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 滤光 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种滤光片,其特征在于,所述滤光片包括:超表面亚波长光栅,位于所述超表面亚波长光栅一侧的柔性支撑层,以及位于所述超表面亚波长光栅背离所述柔性支撑层一侧的柔性封装层;
其中,所述超表面亚波长光栅的入射角a与反射角b满足如下条件:
sin a+sin b=0;
当入射光到达所述超表面亚波长光栅,会发生异常反射和异常折射现象,其中,正常反射光线与异常反射光线分别位于法线两侧;其中,a为入射角,b1为正常反射角,b2为异常反射角,满足sina+sinb1=0,sina+sinb2=0;
其中所述超表面亚波长光栅包括多个沿第一方向间隔排列的单元结构;
所述柔性支撑层包括:位于所述超表面亚波长光栅一侧的第一部分,以及与所述第一部分一体形成且位于相邻所述单元结构之间的第二部分;
所述第二部分背离所述第一部分的表面与所述超表面亚波长光栅背离所述第一部分的表面位于同一平面。
2.根据权利要求1所述的滤光片,其特征在于,所述反射角包括正常反射角和异常反射角。
3.根据权利要求2所述的滤光片,其特征在于,所述超表面亚波长光栅的入射光线与异常反射的反射光线沿同一直线延伸。
4.根据权利要求2所述的滤光片,其特征在于,所述柔性封装层和所述柔性支撑层的材料包括下列之一或其组合:聚二甲基硅氧烷、聚酰亚胺。
5.根据权利要求1~4任一项所述的滤光片,其特征在于,所述超表面亚波长光栅的材料包括下列之一或其组合:硅、氮化硅、氧化硅、氧化钛、锗。
6.根据权利要求1所述的滤光片,其特征在于,所述单元结构的形状为下列任一种:长方体、正方体、圆柱、圆球、椭球。
7.一种根据权利要求1~6任一项所述的滤光片的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
在衬底上形成缓冲层;
在所述缓冲层背离所述衬底一侧形成超表面亚波长光栅的图案;
去除部分所述缓冲层,并在所述超表面亚波长光栅背离所述缓冲层一侧涂覆柔性支撑层;
将所述缓冲层与所述超表面亚波长光栅剥离;
在所述超表面亚波长光栅背离柔性支撑层一侧形成柔性封装层。
8.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括多个根据权利要求1~7任一项所述的滤光片。
9.根据权利要求8所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置包括阵列排布的多种子像素;不同种所述子像素的发光颜色不相同;所述滤光片与所述子像素一一对应;
不同种所述子像素对应的所述滤光片中所述超表面亚波长光栅的周期不同。
10.根据权利要求9所述的显示装置,其特征在于,不同所述滤光片中所述超表面亚波长光栅的高度相同。
11.根据权利要求10所述的显示装置,其特征在于,不同所述滤光片中所述超表面亚波长光栅的高度范围为:180纳米-220纳米。
12.根据权利要求8~11任一项所述的显示装置,其特征在于,不同所述滤光片中所述超表面亚波长光栅的占空比相同。
13.根据权利要求12所述的显示装置,其特征在于,不同所述滤光片中所述超表面亚波长光栅的占空比范围为:0.3~0.7。
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