[发明专利]沉浸式冷却系统在审

专利信息
申请号: 202110400256.1 申请日: 2021-04-14
公开(公告)号: CN115209675A 公开(公告)日: 2022-10-18
发明(设计)人: 谭理光;臧淞 申请(专利权)人: 台达电子工业股份有限公司
主分类号: H05K7/20 分类号: H05K7/20
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 李琛;黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 沉浸 冷却系统
【权利要求书】:

1.一种沉浸式冷却系统,包括:

一箱体,具有一空间;

一第一介电质液体,容置于该空间,且形成一液体表面;以及

一通口,邻设于该液体表面。

2.如权利要求1所述的沉浸式冷却系统,还包括一第二介电质液体,通过该通口进出该空间,其中该第二介电质液体进入该空间时,该第二介电质液体覆盖该第一介电质液体。

3.如权利要求2所述的沉浸式冷却系统,其中该第一介电质液体与该第二介电质液体互不相溶。

4.如权利要求2所述的沉浸式冷却系统,其中该第二介电质液体的密度小于该第一介电质液体的密度。

5.如权利要求2所述的沉浸式冷却系统,其中该第二介电质液体的蒸气压小于该第一介电质液体的蒸气压。

6.如权利要求2所述的沉浸式冷却系统,还包括一储液槽,通过该通口与该空间连通,其中该储液槽用以存储该第二介电质液体。

7.如权利要求6所述的沉浸式冷却系统,还包括一控制装置,用以使该储液槽与该空间连通或不连通。

8.如权利要求6所述的沉浸式冷却系统,还包括一泵,用以使该第二介电质液体进出该储液槽或该空间。

9.如权利要求1所述的沉浸式冷却系统,还包括一冷凝单元,设置于该液体表面上方的该空间。

10.如权利要求1所述的沉浸式冷却系统,还包括一工作物件,沉浸于该第一介电质液体内。

11.一种沉浸式冷却系统,包括:

一箱体,具有一空间;

一第一介电质液体,容置于该空间;

一第二介电质液体,覆盖该第一介电质的一液体表面;以及

一连通物件,容置于该空间,该连通物件用以使部分该第一介电质液体的该液体表面不被该第二介电质液体覆盖或被该第二介电质液体覆盖。

12.如权利要求11所述的沉浸式冷却系统,其中该第一介电质液体与该第二介电质液体互不相溶。

13.如权利要求11所述的沉浸式冷却系统,其中该第二介电质液体的密度小于该第一介电质液体的密度。

14.如权利要求11所述的沉浸式冷却系统,其中该第二介电质液体的蒸气压小于该第一介电质液体的蒸气压。

15.如权利要求11所述的沉浸式冷却系统,还包括一冷凝单元,设置于该液体表面上方的该空间。

16.如权利要求11所述的沉浸式冷却系统,还包括一工作物件,沉浸于该第一介电质液体内。

17.一种沉浸式冷却系统,包括:

一箱体,具有一空间;

一第一介电质液体,容置于该空间;

一第二介电质液体,位于该第一介电质液体上方且与该第一介电质液体接触;以及

一连通物件,容置于该空间,该连通物件用以使部分该第一介电质液体暴露或不暴露于未被该第一介电质液体及该第二介电质液体填充的该空间。

18.如权利要求17所述的沉浸式冷却系统,其中该第一介电质液体与该第二介电质液体互不相溶。

19.如权利要求17所述的沉浸式冷却系统,其中该第二介电质液体的密度小于该第一介电质液体的密度。

20.如权利要求17所述的沉浸式冷却系统,其中该第二介电质液体的蒸气压小于该第一介电质液体的蒸气压。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台达电子工业股份有限公司,未经台达电子工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110400256.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top