[发明专利]基于冷烧结技术制备的高透光率透明陶瓷及其制备方法

权利要求书

1.一种基于冷烧结技术制备高透光率透明陶瓷的方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)称取LiF原料，与不高于50wt％的去离子水进行混合；

(2)将步骤(1)所得的固液混合粉末置于模具中，同时放入热压机中进行冷烧结；其中，冷烧结过程中，控制热压机的工作温度100℃T200℃、压力1000MPaP1200MPa、时间0.5ht10h；

(3)将步骤(2)所得的陶瓷生坯置入80-200℃烘箱中烘干至恒重。

2.根据权利要求1所述基于冷烧结技术制备高透光率透明陶瓷的方法，其特征在于，还包括步骤(4)，将步骤(3)所得的LiF陶瓷块体表面依次在800目、1000目、1500目、2000目、3000目砂纸上打磨，获得透明陶瓷。

3.根据权利要求1-2任一项所述的基于冷烧结技术制备高透光率透明陶瓷的方法，其特征在于，所述步骤(1)之前，还包括：将LiF原料与氧化锆球磨介质、无水乙醇溶剂放入球磨机连续球磨获得均匀细小的LiF粉末。

4.根据权利要求3所述的基于冷烧结技术制备高透光率透明陶瓷的方法，其特征在于，LiF原料、氧化锆球磨介质、无水乙醇的质量比为1：3：2。

5.根据权利要求3所述的基于冷烧结技术制备高透光率透明陶瓷的方法，其特征在于，所述的球磨机为行星式球磨机，转速控制在180～250r/min。

6.根据权利要求1-2任一项所述的基于冷烧结技术制备高透光率透明陶瓷的方法，其特征在于，步骤(1)中，所述LiF原料的纯度为99.99％。

7.根据权利要求1所述的基于冷烧结技术制备高透光率透明陶瓷的方法，其特征在于，步骤(2)中，所述冷烧结的升温工艺包括：以5℃/min的速度升温至设定温度。

8.如权利要求1-7任一项所述方法制得的透明陶瓷，其特征在于，所述透明陶瓷在400nm、800nm和2000nm处的直线透过率分别高达72.5％、79％、72％。