[发明专利]口腔修复膜及其制备方法

权利要求书

1.一种口腔修复膜，其特征在于，包括屏蔽层和设置于所述屏蔽层上的组织支架层；

所述屏蔽层和组织支架层为电纺丝膜；所述屏蔽层的孔径范围为7～16μm；所述组织支架层的孔径范围为50～300μm；

所述屏蔽层和组织支架层由包括以下的原料制备而成：脱细胞基质、生物可降解高分子材料；所述屏蔽层和组织支架层中至少一层中还包括明胶微球；

所述生物可降解高分子材料为聚羟基脂肪酸酯；

所述聚羟基脂肪酸酯为聚3-羟基丁酸和4-羟基丁酸共聚物、聚3-羟基丁酸和3-羟基己酸共聚物的共混物；

所述聚3-羟基丁酸和4-羟基丁酸共聚物、聚3-羟基丁酸和3-羟基己酸共聚物的质量比为(1：5)～(5：1)；所述聚3-羟基丁酸和4-羟基丁酸共聚物中单体3-羟基丁酸和4-羟基丁酸的摩尔比为(1：1)～(1：3)。

2.根据权利要求1所述的口腔修复膜，其特征在于，所述聚3-羟基丁酸和4-羟基丁酸共聚物中单体3-羟基丁酸和4-羟基丁酸的摩尔比为1：2或1：3。

3.根据权利要求2所述的口腔修复膜，其特征在于，所述聚3-羟基丁酸和4-羟基丁酸共聚物、聚3-羟基丁酸和3-羟基己酸共聚物的质量比为(2：1)～(4：1)。

4.根据权利要求1所述的口腔修复膜，其特征在于，所述屏蔽层或组织支架层的原料中，脱细胞基质、生物可降解高分子材料的质量比为(1～10)：(1～10)；脱细胞基质与明胶微球的质量比为(1～10)：1。

5.根据权利要求1～4任一项所述的口腔修复膜，其特征在于，所述明胶微球包括明胶和药物；所述药物选自抗菌剂、抗生素类药物、促组织愈合类药物、抗凝血类药物、抗炎类药物、免疫调节类药物和局部麻醉药物中的一种或几种。

6.根据权利要求5所述的口腔修复膜，其特征在于，

所述抗菌剂为纳米银、银离子、三氯生、洗必泰和铋化合物中的一种或几种所述抗生素类药物为丝裂霉素C、万古霉素、庆大霉素、利福平和异烟肼中的一种或几种；

所述促组织愈合类药物为细胞因子、趋化因子和多肽中的一种或几种；

所述抗凝血类药物为肝素和水蛭素中的至少一种；

所述抗炎类药物为布洛芬、对乙酰氨基酚和COX-2受体拮抗剂中的一种或几种；

所述局部麻醉药物为利多卡因、布比卡因、罗哌卡因中的一种或几种。

7.根据权利要求1～4任一项所述的口腔修复膜，其特征在于，所述屏蔽层和组织支架层的厚度为0.2～2.0mm。

8.根据权利要求1～7任一项所述的口腔修复膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将所述生物可降解高分子材料、脱细胞基质溶于溶剂中，共混，制得电纺溶液；

(2)将所得电纺溶液经静电纺制备屏障层；

(3)再用所述电纺溶液在所述屏障层上通过静电纺制备细胞支架层，得到所述口腔修复膜；

在步骤(2)～(3)至少一个步骤的电纺溶液中加入所述明胶微球。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述溶剂为甲酸、乙酸、乙醇、丙酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、四氢呋喃、二甲基亚砜、六氟异丙醇、三氟乙醇、二氯甲烷、三氯甲烷、甲醇、乙醇、氯仿、二噁烷、三氟乙烷、三氟乙酸和水中的至少一种。