[发明专利]一种半导体废水脱氟处理装置

说明书

本发明涉及半导体技术领域，且公开了一种半导体废水脱氟处理装置，包括外壳，所述外壳外侧设有处理室；齿轮转动，转动组件同步转动，使转板进行间歇往复转动，引起卡框进行间歇上下移动，下插头远离下插座，上插头与上插座卡接，控制加两个加热器错开运行，有利于活性氧化铝层的重复使用，加热器运行，对活性氧化铝层进行烘干处理，使活性氧化铝层可得到循环利用，避免由于其吸附量过多影响其后续的吸附效果，有效提高废水脱氟处理效果，转板间歇往复转动带动两个卡杆进行间歇上下移动，引起两个限流杆错开挤压处理室分流管，自动控制废水的流向，使其能够不间断的进行脱氟处理操作，从而提高废水处理效率。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，具体为一种半导体废水脱氟处理装置。

背景技术

半导体工业是一个十分依赖水资源的行业，也是高耗水的行业。因此，节约用水和废水回收利用已成为半导体业者应对缺水危机的重要措施，特别是废水的回收利用，既能减少对水资源的需求，又能降低生产成本，同时也减少对环境的污染。由于半导体废水中含有氟，若是长期饮用不符合要求含氟量的水，会对人体健康产生较大的危害。目前对废水脱氟时，需要每隔一段时间对脱氟机构进行处理，避免脱氟机构长时间的使用，降低其对废水中氟的吸附能力，但是在操作时，需要暂停脱氟过程，操作不是很便捷，并且严重降低工作效率，不能满足实际加工需求。

针对现有技术的不足，本发明提供了一种半导体废水脱氟处理装置，具备无需暂停脱氟操作和工作效率更高的优点。

发明内容

(一)技术方案

为实现上述无需暂停脱氟操作和工作效率更高的目的，本发明提供如下技术方案：一种半导体废水脱氟处理装置，包括外壳，所述外壳外侧设有处理室，处理室的内部设有活性氧化铝层，处理室的表面设有加热器，外壳的内部转动连接有转盘，转盘的两侧均滑动连接有限流杆，限流杆的底部固定连接有连接杆，连接杆的内部卡接有卡杆，转盘的下方设有插座，插座的下方转动连接有转板，转板的表面固定连接有连板，连板的表面滑动连接有卡框，卡框的上下两侧均设有插头，转板的两侧均转动连接有齿轮，齿轮的表面固定连接有转动组件。

优选的，所述处理室由进水管、出水管和分流管构成，分流管有两个并且规格相同，两个分流管以出水管的中轴线为参考呈现对称分布，其内部均设有活性氧化铝层，处理室分流管的部管体为软质材料，加热器有两个并且规格相同，两个加热器分别设置于处理室分流管内活性氧化铝层的外侧。

优选的，所述转盘的外侧固定连接有卡板，卡板与处理室固定连接，转盘的外侧活动连接有第一拉绳，第一拉绳远离转盘的一侧与转板活动连接，限流杆有两个并且规格相同，限流杆的外侧固定连接有槽板，槽板与处理室固定连接，槽板的表面开设有斜槽，限流杆卡在其斜槽内，限流杆位于处理室分流管软质管体的底部。

优选的，所述连接杆呈现倒置T状，其横块的内部开设有通口，卡杆有两个并且规格相同，卡杆呈现倒置工字状，两个卡杆相互靠近一侧块体的外侧活动连接有弹簧，弹簧远离卡杆的一侧与其同侧连接杆的横块活动连接，卡杆的横杆卡在连接杆横块的通口内，卡杆的下方活动连接有弹簧，弹簧远离卡杆的一侧与处理室活动连接，卡杆两侧块体的外侧均设有凸柱，卡杆的外侧且位于外壳内壁的表面开设有卡槽，卡杆的凸柱卡在其卡槽内，两个卡杆之间活动连接有第二拉绳，第二拉绳活动连接在转盘的外侧。

优选的，所述插座有两个并且规格相同，上插座与转盘外侧的卡板固定连接，下插座与处理室固定连接，转板的表面开设有两个规格相同的通槽，相邻两个通槽之间的区域呈现人字状，其弧面与转动组件弧板的尺寸相适配。

优选的，所述连板的表面开设有凸柱，卡框的内部开设有通槽，其尺寸与连板凸柱的尺寸相适配，卡框的两端均固定连接有凸柱，凸柱的外侧且位于外壳内壁的表面开设有卡槽，卡框的凸柱卡在其卡槽内，插头有两个并且规格相同，分别设置于卡框的上下两侧，上插头与上插座、右侧加热器电连接，下插头与下插座、左侧加热器电连接。