[发明专利]介电透镜以及具有介电透镜的电磁设备在审
申请号: | 202110372684.8 | 申请日: | 2021-04-07 |
公开(公告)号: | CN113495397A | 公开(公告)日: | 2021-10-12 |
发明(设计)人: | 特雷弗·波利多尔;塞尔焦·克拉维霍;迪尔克·巴尔斯;约翰·桑福德 | 申请(专利权)人: | 罗杰斯公司 |
主分类号: | G02F1/29 | 分类号: | G02F1/29;H01Q15/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王萍;高雪 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透镜 以及 具有 电磁 设备 | ||
1.一种介电透镜,包括:
介电材料的三维3D主体,其具有在空间上变化的介电常数Dk;
所述3D主体具有至少三个区域R(i),所述至少三个区域具有相对于所述至少三个区域R(i)中的对应区域的周围区域的介电常数值Dk(i)的局部最大值,所述至少三个区域R(i)的位置由相对于与所述3D主体相关联的特定公共原点的方位角(i)、天顶角(i)和径向距离(i)的局部坐标来限定,其中,(i)是范围从1到至少3的索引;
其中,所述3D主体的在空间上变化的Dk被配置成以给定方位角和给定径向距离至少根据区域R(1)与区域R(2)之间的天顶角而变化。
2.根据权利要求1所述的介电透镜,其中,所述给定径向距离是第一给定径向距离,并且进一步地其中:
所述3D主体的在空间上变化的Dk还被配置成以所述给定方位角和第二变化径向距离根据所述区域R(1)与所述区域R(2)之间的天顶角而变化,所述第二变化径向距离根据所述天顶角而变化。
3.根据权利要求1至2中任一项所述的介电透镜,其中:
所述3D主体的在空间上变化的Dk还被配置成以给定方位角和给定径向距离根据所述区域R(1)与区域R(3)之间的天顶角而变化。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的介电透镜,其中:
所述3D主体的在空间上变化的Dk还被配置成以给定天顶角和给定径向距离根据所述区域R(2)与所述区域R(3)之间的方位角而变化。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的介电透镜,其中:
所述3D主体的在空间上变化的Dk还被配置成根据所述特定公共原点与R(1)之间的径向距离而变化。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的介电透镜,其中:
所述3D主体的在空间上变化的Dk还被配置成根据所述特定公共原点与R(2)之间的径向距离而变化。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的介电透镜,其中:
所述3D主体的在空间上变化的Dk还被配置成根据所述特定公共原点与R(3)之间的径向距离而变化。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的介电透镜,其中:
所述3D主体具有基本区域和外表面区域,并且所述特定公共原点在所述基本区域附近。
9.根据权利要求8所述的介电透镜,其中:
所述3D主体的在空间上变化的Dk还被配置成在至少三个不同的径向方向上从所述特定公共原点到所述外表面区域变化。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的介电透镜,其中:
在相距180度的对应方位角处的R(2)和R(3)关于彼此对称。
11.根据权利要求1至9中任一项所述的介电透镜,其中:
在相距180度的对应方位角处的R(2)和R(3)关于彼此且关于R(1)对称。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的介电透镜,其中:
所述3D主体在所述特定公共原点处的Dk等于或大于空气的Dk且等于或小于1.2。
13.根据权利要求1至11中任一项所述的介电透镜,其中:
所述3D主体的距所述特定公共原点达限定径向距离rk处的Dk等于或大于空气的Dk且等于或小于2。
14.根据权利要求1至11中任一项所述的介电透镜,其中:
所述3D主体的距所述特定公共原点达限定径向距离rk处的Dk等于或大于空气的Dk且等于或小于1.5。
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