[发明专利]利用水合试剂制备催化剂的方法在审
申请号: | 202110358964.3 | 申请日: | 2019-04-09 |
公开(公告)号: | CN113072653A | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | M·P·麦克丹尼尔;K·S·克莱尔;J·M·普雷托里亚斯;E·D·施韦特费格尔;M·D·雷夫韦克;M·L·哈维卡 | 申请(专利权)人: | 切弗朗菲利浦化学公司 |
主分类号: | C08F4/02 | 分类号: | C08F4/02;C08F4/24;C08F110/02 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 王永伟 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 水合 试剂 制备 催化剂 方法 | ||
1.一种方法,其包含:
a)使溶剂、羧酸和含过氧化物的化合物接触以形成酸性混合物,其中所述酸性混合物中溶剂与羧酸的重量比为约1:1至约100:1;
b)使含钛化合物与所述酸性混合物接触以形成溶解的钛混合物,其中所述溶解的钛混合物中含钛化合物与羧酸的当量摩尔比为约1:1至约1:4,并且所述溶解的钛混合物中含钛化合物与含过氧化物的化合物的当量摩尔比为约1:1至约1:20;和
c)使包含约0.1wt%至约20wt%的水的铬-二氧化硅载体与所述溶解的钛混合物接触以形成加成产物,并且通过加热至在约50℃至约150℃的范围内的温度并且将所述温度维持在约50℃至约150℃的范围内持续约30分钟至约6小时的时间段来干燥所述加成产物以形成预催化剂。
2.权利要求1所述的方法,其中所述含过氧化物的化合物包含过氧化氢、二叔丁基过氧化物、苯甲酰过氧化物、二枯基过氧化物、枯基过氧氢、叔丁基过氧氢、邻苯二甲酰过氧化物或其组合。
3.权利要求1所述的方法,其中所述羧酸包含C1至C15单羧酸、C1至C15二羧酸、C3至C15三羧酸、C1至C15α-羟基羧酸或其组合。
4.权利要求1所述的方法,其中所述羧酸包含乙酸、柠檬酸、葡萄糖酸、乙醇酸、乙醛酸、乳酸、苹果酸、丙二酸、草酸、膦酰基乙酸、酒石酸、甘油酸、葡萄糖酸、扁桃酸、2,4-羟基苯甲酸、2,6-吡啶二羧酸、硝基三乙酸、α-羟基异丁酸、甲基丙二酸、苯基丙二酸、二葡萄糖酸、亚氨基二乙酸、羟基甲基-2-丁酸或其组合。
5.一种方法,其包含:
a)使溶剂、羧酸、含氮化合物和含过氧化物的化合物接触以形成酸性混合物,其中所述酸性混合物中溶剂与羧酸的重量比为约1:1至约100:1;
b)使含钛化合物与所述酸性混合物接触以形成溶解的钛混合物,其中所述溶解的钛混合物中含钛化合物与羧酸的当量摩尔比为约1:1至约1:4,并且所述溶解的钛混合物中含钛化合物与含过氧化物的化合物的当量摩尔比为约1:1至约1:20;和
c)使包含约0.1wt%至约20wt%的水的铬-二氧化硅载体与所述溶解的钛混合物接触以形成加成产物,并且通过加热至在约50℃至约150℃的范围内的温度并且将所述温度维持在约50℃至约150℃的范围内持续约30分钟至约6小时的时间段来干燥所述加成产物以形成预催化剂。
6.权利要求5所述的方法,其中所述羧酸包含C1至C15单羧酸、C1至C15二羧酸、C3至C15三羧酸、C1至C15α-羟基羧酸或其组合。
7.权利要求5所述的方法,其中所述羧酸包含乙酸、柠檬酸、葡萄糖酸、乙醇酸、乙醛酸、乳酸、苹果酸、丙二酸、草酸、膦酰基乙酸、酒石酸、甘油酸、葡萄糖酸、扁桃酸、2,4-羟基苯甲酸、2,6-吡啶二羧酸、硝基三乙酸、α-羟基异丁酸、甲基丙二酸、苯基丙二酸、二葡萄糖酸、亚氨基二乙酸、羟基甲基-2-丁酸或其组合。
8.权利要求5所述的方法,其中所述含氮化合物包含烷醇胺、酰胺、胺、烷基胺、氢氧化铵、苯胺、羟胺、脲或其组合。
9.权利要求5所述的方法,其中所述含过氧化物的化合物包含有机过氧化物、二酰基过氧化物、过氧二碳酸盐(酯)、单过氧碳酸盐(酯)、过氧缩酮、过氧化酯、二烷基过氧化物、氢过氧化物或其组合。
10.权利要求5所述的方法,其中所述含过氧化物的化合物包含过氧化氢、二叔丁基过氧化物、苯甲酰过氧化物、二枯基过氧化物、枯基过氧氢、叔丁基过氧氢、邻苯二甲酰过氧化物或其组合。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于切弗朗菲利浦化学公司,未经切弗朗菲利浦化学公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110358964.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:内组合框架-剪力墙混合结构体系及其施工方法
- 下一篇:一种动画投影控制方法