[发明专利]一种量子点器件及其制备方法在审
申请号: | 202110319250.1 | 申请日: | 2021-03-25 |
公开(公告)号: | CN113109974A | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 陈涛 | 申请(专利权)人: | 纳晶科技股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/135 | 分类号: | G02F1/135;H01L27/32;H01L51/50;H01L51/56 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310052 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 量子 器件 及其 制备 方法 | ||
本公开提供了一种量子点器件及其制备方法,制备方法包括:S1,在基板上设置感光材料,感光材料具有相互可交联的第一基团和可与量子点配位结合的第二基团;S2,利用掩模板对感光材料进行曝光显影,清洗除去未固化的感光材料,第一基团相互交联发生聚合,形成多个互相间隔的固化的聚合物锚定层;S3,在具有锚定层的基板上设置量子点组合物,量子点组合物中的量子点与第二基团配位结合,得到多个被锚定层锚定的量子点层。实现高分辨率并且工艺相对简单的量子点器件的制备。
技术领域
本公开涉及量子点器件技术领域,具体而言,涉及一种量子点器件及其制备方法。
背景技术
量子点显示技术是近年来热门的研究方向,量子点在显示的应用包括光致发光和电致发光。高分辨率是显示设备的重要方向,现有技术中采用喷墨打印来制备显示用的电致发光器件和光致发光器件(如量子点彩膜),因此主要依靠喷墨打印设备的精度来提高量子点器件的像素分辨率。高进度的打印设备价格昂贵,工艺中出现各种困难。现提出一种可以制备高分辨率并且工艺相对简单的量子点器件制备方法。
发明内容
本公开的目的在于提供一种量子点器件及其制备方法,解决现有技术中依赖高精度打印设备实现高分辨率显示的问题。
本公开的第一个方面,提供了一种量子点器件的制备方法,该制备方法包括:S1,在基板上设置感光材料,上述感光材料具有相互可交联的第一基团和可与量子点配位结合的第二基团;S2,利用掩模板对上述感光材料进行曝光显影,清洗除去未固化的感光材料,上述第一基团相互交联发生聚合,形成多个互相间隔的固化的聚合物锚定层;S3,在具有上述锚定层的基板上设置量子点组合物,上述量子点组合物中的量子点与上述第二基团配位结合,得到多个被上述锚定层锚定的量子点层。
进一步地,在上述S2中,利用掩模板对上述感光材料进行曝光显影并清洗,形成多个互相间隔的第一锚定层;在上述S3中,在具有上述第一锚定层的基板上设置第一量子点组合物,等待第一时间后,使用溶剂清洗除去未结合的第一量子点,从而在各上述第一锚定层上形成第一量子点层;继续在上述基板上设置感光材料,利用掩模板进行曝光显影并清洗,形成多个互相间隔的第二锚定层,且上述第二锚定层和上述第一锚定层并无叠置;继续在上述基板上设置第二量子点组合物,等待第二时间后,使用溶剂清洗除去未结合的第二量子点,从而在各上述第二锚定层上形成第二量子点层。
进一步地,上述制备方法还包括:在完成上述第二量子点层的设置后,在基板上设置感光材料,利用掩模板进行曝光显影并清洗,形成多个互相间隔的第三锚定层,且上述第三锚定层和上述第一锚定层、上述第二锚定层并无叠置;继续在上述基板上设置第三量子点组合物,等待第三时间后,使用溶剂清洗除去未结合的第三量子点,在各上述第三锚定层上形成第三量子点层。
进一步地,上述第一基团选自烯基、炔基、巯基、羟基、羰基或环氧基中的至少一种,上述第二基团选自胺基、巯基或羧基中的至少一种。
进一步地,在上述S3中,在各个上述锚定层上设置含量子点A的组合物,上述第二基团与上述量子点A的表面配位结合,使用溶剂清洗除去未结合的上述量子点A,得到量子点A层;在上述量子点A层上设置多个具有多官能团的配体,上述配体的一端官能团与上述量子点A连接,清洗掉未与上述量子点A结合的上述配体,形成位于上述量子点A层上的配体层;在上述基板上继续设置含量子点B的组合物,上述量子点B通过连接上述配体的另一端官能团与上述量子点A结合,使用溶剂清洗除去未结合的上述量子点B,从而得到量子点B层。
进一步地,将上述S2中形成的上述聚合物锚定层记为锚定A层,上述制备方法包括:在上述S3中,在锚定A层上设置含量子点A的量子点组合物,上述第二基团与上述量子点A的表面配位结合,使用溶剂清洗除去未结合的上述量子点A,得到量子点A层;在上述基板上继续设置感光材料,曝光显影固化,形成锚定B层,上述锚定B层的一部分和上述锚定A层叠置设置,在上述锚定B层上设置含量子点B的量子点组合物,上述量子点B与上述锚定B层的第二基团配位结合,得到量子点B层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳晶科技股份有限公司,未经纳晶科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110319250.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种可以改善传统烟支抽吸舒适性的烟具
- 下一篇:导电粒子的检测方法