[发明专利]晶圆视觉检测方法、检测系统、检测晶圆损坏的方法在审
申请号: | 202110316188.0 | 申请日: | 2021-03-24 |
公开(公告)号: | CN113161254A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 左国军;任金枝;范生刚;马冠男 | 申请(专利权)人: | 创微微电子(常州)有限公司;常州捷佳创精密机械有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/67 |
代理公司: | 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 汪海屏;王淑梅 |
地址: | 213133 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 视觉 检测 方法 系统 损坏 | ||
本发明提供了一种晶圆视觉检测方法、检测系统、检测晶圆损坏的方法。其中,晶圆视觉检测方法包括:在上料区检测晶圆盒的位置偏移;在工作区检测晶圆的损坏情况;在下料区检测晶圆的第一数量。从而利用在不同区域的晶圆盒定位、晶圆损坏情况、晶圆数量检测,完善晶圆的检测机制,保证检测数据的准确性,使得用户可以实时监控晶圆和晶圆盒的状态,有效的避免设备异常造成的成本损失。
技术领域
本发明涉及半导体制备技术领域,具体而言,涉及一种晶圆视觉检测方法、一种晶圆视觉检测系统、一种检测晶圆损坏的方法。
背景技术
目前的晶圆清洗设备在运行过程中,往往通过人工方式放置晶圆盒,上料时无法对晶圆盒的位置和角度进行监测。而晶圆盒的位置和角度会影响晶圆盒内晶圆数量的检测,而且不利于运输晶圆盒,使得晶圆在槽内清洗的过程中存在损坏的问题,如果不及时检测和筛选,会造成不合格品与合格品混合在一起,后期很难筛选。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。
为此,本发明的第一方面提供了一种晶圆视觉检测方法。
本发明的第二方面还提供了一种晶圆视觉检测系统。
本发明的第三方面还提供了一种检测晶圆损坏的方法。
有鉴于此,本发明的第一方面提出了一种晶圆视觉检测方法,包括:在上料区检测晶圆盒的位置偏移;在工作区检测晶圆的损坏情况;在下料区检测晶圆的第一数量。
在上述技术方案中,进一步地,在上料区检测晶圆盒的位置偏移,包括:通过第一光源照射上料区的晶圆盒;通过第一成像装置拍摄晶圆盒,形成第一照片并发送至控制单元;控制单元控制图像处理模块比对第一照片与晶圆盒标准照片,以获取晶圆盒的位置偏移信息;其中,晶圆盒的位置偏移信息包括晶圆盒在上料区的摆放角度的偏移量。
在上述任一技术方案中,进一步地,晶圆视觉检测方法还包括:在上料区检测晶圆的第二数量;在上料区检测晶圆的第二数量,包括:控制单元控制图像处理模块识别第一照片中的亮色线条,以获取上料区的晶圆的第二数量。
在上述任一技术方案中,进一步地,在工作区检测晶圆的损坏情况包括:从工作区的目标区域中取出晶圆盒后,通过第二光源照射目标区域;通过第二成像装置拍摄目标区域,形成第二照片并发送至控制单元;控制单元控制图像处理模块处理第二照片,以获取晶圆碎片信息。
在上述任一技术方案中,进一步地,工作区包括清洗槽;目标区域包括清洗槽的槽体底部;控制单元控制图像处理模块处理第二照片,以获取晶圆碎片信息,包括:设置槽体底部在第二照片中呈现为亮色区域;控制单元控制图像处理模块识别第二照片中形成的暗色区域,以获取晶圆碎片信息;当晶圆碎片信息大于或等于第一阈值时,控制单元判定晶圆盒内存在晶圆损坏情况。
在上述任一技术方案中,进一步地,晶圆视觉检测方法还包括:在工作区检测晶圆的数量;在工作区检测晶圆的第三数量,包括:当晶圆盒进入工作区时,通过第二光源照射工作区的晶圆盒;通过第二成像装置拍摄工作区的晶圆盒,形成第三照片并发送至控制单元;控制单元控制图像处理模块处理第三照片中的亮色线条,以获取第三数量。
在上述任一技术方案中,进一步地,在下料区检测晶圆的第一数量,包括:通过第三光源照射下料区的晶圆;通过第三成像装置拍摄下料区的晶圆,形成第四照片并发送至控制单元;控制单元控制图像处理模块识别第四照片中的亮色线条,以获取第一数量。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于创微微电子(常州)有限公司;常州捷佳创精密机械有限公司,未经创微微电子(常州)有限公司;常州捷佳创精密机械有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造