[发明专利]一种瑞格列奈氘标记代谢物的制备方法

权利要求书

1.一种瑞格列奈氘标记代谢物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）将标记的异溴丁烷做成格式试剂Ⅲ后再和化合物Ⅱ羟基保护的2-（3-羟基哌啶-1-基）苯甲腈在干燥的有机溶剂中加热反应2~20小时，得到化合物Ⅳ；所述的有机溶剂为乙醚、四氢呋喃、甲苯；所述羟基保护基为ＴＨＰ或三甲基硅基；

（2）取化合物Ⅳ溶于有机溶剂中，加入还原剂，加热搅拌反应，再经酸碱洗后得到化合物Ⅴ；

（3）取化合物Ⅴ溶于极性非质子溶剂中，加入卤代硅烷和有机碱，反应得到化合物Ⅵ；所述的极性非质子溶剂为二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺或乙腈；所述的卤代硅烷为三甲基氯硅烷、三乙基氯硅烷或叔丁基二甲基氯硅烷；所述的有机碱为咪唑、三乙胺或吡啶；

（4）取化合物Ⅵ和Ⅶ溶于有机溶剂中，加入缩合剂后得到化合物Ⅷ；

（5）取化合物Ⅷ溶于有机溶剂中，在冰浴条件下，加入无机碱，加热反应，反应完后调酸析出的固体经干燥后得到Ⅸ；

（6）将化合物Ⅸ溶于有机溶剂中，加入无机酸加热反应，得到化合物Ⅰ，即瑞格列奈氘标记代谢物；

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2.根据权利要求1所述的瑞格列奈氘标记代谢物的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述化合物Ⅱ和格式试剂Ⅲ的摩尔用量比为1:1~1:3。

3.根据权利要求1所述的瑞格列奈氘标记代谢物的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述的有机溶剂为甲醇、乙醇、异丙醇、四氢呋喃；

所述的还原剂为硼氢化钠、硼氢化钾或四氢铝锂。

4.根据权利要求1所述的瑞格列奈氘标记代谢物的制备方法，其特征在于，所述的化合物Ⅳ与还原剂的摩尔用量比为1:1~1:3。

5.根据权利要求1所述的瑞格列奈氘标记代谢物的制备方法，其特征在于，步骤(3)化合物V和卤代硅烷的摩尔用量比为1:1.5。

6.根据权利要求1所述的瑞格列奈氘标记代谢物的制备方法，其特征在于，步骤(4)所述的有机溶剂为二氯甲烷、1,2-二氯乙烷、三氯甲烷；所述的缩合剂为羰基二咪唑、二环己基亚胺。

7.根据权利要求1所述的瑞格列奈氘标记代谢物的制备方法，其特征在于，步骤(5)所述的有机溶剂为甲醇、乙醇、异丙醇、四氢呋喃；所述的无机碱为氢氧化钠、氢氧化锂或氢氧化钾。

8.根据权利要求1所述的瑞格列奈氘标记代谢物的制备方法，其特征在于，步骤（6）所述的有机溶剂为甲醇、乙醇、异丙醇、四氢呋喃，所述的无机酸为盐酸或硫酸。