[发明专利]均衡电荷的电极触片及制作方法在审

专利信息
申请号: 202110274053.2 申请日: 2021-03-15
公开(公告)号: CN113041492A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 胥红来;洪宇祥;黄肖山;刘涛;寇宇畅;李旭 申请(专利权)人: 博睿康科技(常州)股份有限公司
主分类号: A61N1/05 分类号: A61N1/05
代理公司: 常州至善至诚专利代理事务所(普通合伙) 32409 代理人: 赵旭
地址: 213164 江苏省常州市武进区常武中路8*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 均衡 电荷 电极 制作方法
【说明书】:

发明涉及脑神经信号采集及治疗技术领域,尤其涉及一种均衡电荷的电极触片及制作方法,均衡电荷的电极触片包括电极触片本体,电极触片本体的上表面具有凹陷部,凹陷部在电极触片本体的下表面相应形成外凸部,电极触片本体的外表面上经表面处理工艺形成粗糙表面。外凸部的表面与活体接触,本发明通过将电极触片本体的外表面进行表面处理后,使得外凸部的表面粗糙,即外凸部的表面凹凸不平,增加了外凸部的表面的接触面积,电荷密度更小,刺激时使组织和电极更安全。

技术领域

本发明涉及脑神经信号采集及治疗技术领域,尤其涉及一种均衡电荷的电极触片及制作方法。

背景技术

植入式脑神经调节器用于脑神经信号采集及治疗,广泛应用在帕金森、肌张力障碍、原发性震颤、癫痫等慢性疾病的治疗。作为植入体关键部件的电极触片用来信号采集和脉冲刺激。目前市场上的电极触点主要有三种,“环状”、“球状”、“片状”;“环状”电极触点会产生整环圆周刺激,不利于定向刺激;“球状”电极触点接触不均,不能产生均匀的刺激且功耗大,“片状”的电极未做修饰,电荷的密度高,安全性低。

发明内容

本发明要解决的技术问题是:为了解决上述环状、球状和片状的电极应用在脑神经信号采集及治疗的技术领域中产生的技术问题,本发明提供一种均衡电荷的电极触片及制作方法。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种均衡电荷的电极触片,包括电极触片本体,所述电极触片本体的上表面具有凹陷部,凹陷部在电极触片本体的下表面相应形成外凸部,所述电极触片本体的外表面上经表面处理工艺形成粗糙表面。外凸部的表面与活体接触,本发明通过将电极触片本体的外表面进行表面处理后,使得外凸部的表面粗糙,即外凸部的表面凹凸不平,增加了外凸部的表面的接触面积,电荷密度更小,刺激时使组织和电极更安全。

进一步,具体的,所述电极触片外凸部的表面上形成有交替设置的凹部与凸部。

为了便于更好地和硅胶载体的结合,防止脱落,所述电极触片本体的外周还形成有裙边。

为了使得电极触片和硅胶载体更牢固地结合,所述凹陷部内设置有底涂剂层。

为了便于使用,所述裙边外周以及凹陷部均包覆有硅胶载体,底涂剂层位于硅胶载体和凹陷部之间。所述裙边表面粗糙,有利于硅胶吸附,更牢固。

所述电极触片本体采用铂金或铂铱合金,生物相容性好。

一种均衡电荷的电极触片的制作方法:包括如下步骤:

S1:在片料上裁切出电极触片本体雏形;

S2:电极触片本体雏形位于凹模和凸模之间,凹模和凸模合模;

S3:脱模后的电极触片本体进行表面处理工艺,使得外凸部的表面上形成粗糙表面。

还包括S4:在步骤S3中形成的电极触片本体上的凹陷部内,涂覆底涂剂层。

还包括S5:在步骤S4中形成的电极触片本体上的裙边外周和凹陷部的上方均包覆硅胶载体。

所述步骤S3中表面处理工艺为喷丸处理工艺、激光蚀刻工艺或者酸蚀工艺。

本发明的均衡电荷的电极触片及制作方法,具有以下有益效果:

1、电极触片经过喷丸和蚀刻处理,表面粗糙(凹凸状)增加了接触面积,电荷密度更小,刺激时使组织和电极更安全;

2、激光蚀刻需要在惰性气体保护空间内进行,防止电极腐蚀,防止表面产生不易清除的毒性物质;

3、低密度的电刺激有利于神经组织吸附;

4、电极触片带裙边,更好的硅胶包裹,防止脱落;

5、电极触片的凹陷部,可以储存底涂剂,使金属电极和硅胶两种材料粘接更牢固;

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