[发明专利]基板处理装置及系统、基板处理装置及系统的控制方法在审

专利信息
申请号: 202110268824.7 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN113451097A 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 辻本宏;田中一光 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/67
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置 系统 控制 方法
【权利要求书】:

1.一种基板处理装置,具备:

基板载置台,其用于载置基板;

第一高频电源,其将第一频率的第一高频电力输出至所述基板载置台;

第二高频电源,其将比所述第一频率低的第二频率的第二高频电力输出至所述基板载置台;以及

控制部,其控制所述第一高频电源,

其中,所述第一高频电源具备反射波检测器,该反射波检测器检测从所述基板载置台输入的反射波,

所述控制部根据处理内容来决定设定值,控制所述第一高频电源以使有效功率成为所述设定值,所述有效功率是从所述第一高频电源的输出功率减去所述反射波检测器检测到的所述反射波的功率所得到的差。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,

所述第一频率为40MHz,

所述第二频率为400kHz。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置,其中,

所述控制部使用以下范围内的所述反射波的功率来计算所述有效功率,所述范围为从自所述第一频率减去第三频率所得到的频率起至将所述第三频率与所述第一频率相加所得到的频率为止的范围,所述第三频率为所述第二频率的整数倍。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置,其中,

所述整数倍为2倍。

5.一种基板处理系统,具备多个基板处理装置,所述基板处理装置具备:

基板载置台,其用于载置基板;

第一高频电源,其将第一频率的第一高频电力输出至所述基板载置台;

第二高频电源,其将比所述第一频率低的第二频率的第二高频电力输出至所述基板载置台;以及

控制部,其控制所述第一高频电源,

其中,所述第一高频电源具备反射波检测器,该反射波检测器检测从所述基板载置台输入的反射波,

所述控制部控制所述第一高频电源以使有效功率成为设定值,所述有效功率是从所述第一高频电源的输出功率减去所述反射波检测器检测到的所述反射波的功率所得到的差,

在所述基板处理系统中,

各个所述基板处理装置的所述设定值在所述基板处理装置之间为共同的值。

6.一种基板处理装置的控制方法,所述基板处理装置具备:

基板载置台,其用于载置基板;

第一高频电源,其生成第一频率的第一高频电力,并将该第一高频电力输出至所述基板载置台;

第二高频电源,其生成比所述第一频率低的第二频率的第二高频电力,并将该第二高频电力输出至所述基板载置台;以及

控制部,其控制所述第一高频电源,

其中,所述第一高频电源具备反射波检测器,该反射波检测器检测从所述基板载置台输入的反射波,

该基板处理装置的控制方法包括以下步骤:

所述控制部根据处理内容来决定设定值;

所述控制部控制所述第一高频电源以使有效功率成为所述设定值,所述有效功率是从所述第一高频电源的输出功率减去所述反射波检测器检测到的所述反射波的功率所得到的差。

7.一种基板处理系统的控制方法,所述基板处理系统具备多个基板处理装置,所述基板处理装置具备:

基板载置台,其用于载置基板;

第一高频电源,其将第一频率的第一高频电力输出至所述基板载置台;

第二高频电源,其将比所述第一频率低的第二频率的第二高频电力输出至所述基板载置台;以及

控制部,其控制所述第一高频电源,

其中,所述第一高频电源具备反射波检测器,该反射波检测器检测从所述基板载置台输入的反射波,

所述基板处理系统的控制方法包括以下步骤:

各个所述基板处理装置的所述控制部控制各个所述第一高频电源,以使有效功率成为在所述基板处理装置之间共同的设定值,所述有效功率是从所述第一高频电源的输出功率减去与所述第一频率不同频率的所述反射波的功率所得到的差。

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