[发明专利]一种半导体热电材料制冷平台

说明书

本发明属于制冷技术领域，涉及开放性工作平台的制冷设备，具体为一种半导体热电材料制冷平台。为了解决现有技术问题，提供一种半导体热电材料制冷平台，包括半导体制冷陶瓷片、水循环降温系统、温度监测及控制系统、工作平台，所述的半导体制冷陶瓷片顶面与工作平台接触，半导体制冷陶瓷片底面与水循环降温系统接触，温度监测及控制系统分别与工作平台、半导体制冷陶瓷片连接。节能环保、升本低、占用空间小，适用于开放性空间，该设备可以提供一个温度区间在室温到零下40℃可自由调节温度的工作平台供用户使用。

技术领域

本发明属于制冷技术领域，涉及开放性工作平台的制冷设备，具体为一种半导体热电材料制冷平台。

背景技术

不管是生活中还是工业生产中，制冷都是不可缺少的一个环节。冷却手段也是日益繁多，例如：普通家用冰箱空调压缩机早期使用的氟利昂作为制冷剂，工业生产中使用冷却塔水冷。但是市面上常见的制冷设备都是密闭型设备，而某些工作需要在温度较低的开放性平台上进行，市面上的设备显得过于庞大、不环保、成本较高。一种小型的，可以提供开放性工作平台的制冷设备，将会极大的减小研究和生产加工过程中的成本。

发明内容

为了解决现有制冷设备体积庞大、成本高、不环保的技术问题，提供一种应用于开放性工作平台的制冷设备，本发明研发了一种半导体热电材料制冷平台，该装置能够提供一个温度保持在﹣40℃～0℃之间的开放式低温工作平台，温度可由用户根据使用需求自定义并实现精确控制。

本发明采用的技术方案是，一种半导体热电材料制冷平台，包括半导体制冷陶瓷片、水循环降温系统、温度监测及控制系统、工作平台，所述的半导体制冷陶瓷片顶面与工作平台接触，半导体制冷陶瓷片底面与水循环降温系统接触，温度监测及控制系统分别与工作平台、半导体制冷陶瓷片连接。

所述的温度监测及控制系统包括直流电源、DC电压电流调节器、温度传感器、温度控制芯片，所述的温度传感器设置在工作平台上，并与温度控制芯片电连接，所述的DC电压电流调节器与半导体制冷陶瓷片电连接。

所述的半导体制冷陶瓷片的工作电压范围为12V-18V，工作电流范围为1A-5A。

所述的工作平台的工作温度为﹣40℃～0℃，温度控制精度为±0.05℃。

所述的半导体制冷陶瓷片为呈阵列排布的半导体制冷陶瓷片组。

所述的水循环降温系统包括增压静音水泵或潜水泵。

所述的工作平台下表面设置有隔热棉。

本发明的有益效果：

该制冷平台适用于开放性工作平台，半导体制冷陶瓷片作为特种冷源，具有不需要任何制冷剂、可连续工作、没有污染源、工作时无振动无噪音等优点；

水循环降温系统与半导体制冷陶瓷片热端直接接触，为其散热，保证整个设备在运行过程中不过热，保证设备运行稳定性和安全性；

半导体制冷陶瓷片为呈阵列排布的半导体制冷陶瓷片组。半导体制冷陶瓷片为主要制冷元器件，与水循环降温系统紧密接触，在必要时可以采用多个半导体制冷陶瓷片组成阵列，增大工作面积；

水循环降温系统包括增压静音水泵或潜水泵，能够高效、低噪声的完成半导体制冷陶瓷片的散热工作；

工作平台下表面使用隔热棉包裹，减少了周边空气温度对工作平台温度的影响；

半导体制冷陶瓷片工作时制冷，由水循环降温系统通过水泵供水为半导体制冷陶瓷片降温、散热，使半导体制冷陶瓷片维持在一个稳定的工作温度，保证其能够正常工作。温度监测及控制系统通过固定在工作平台上的温度传感器，实时监测工作平台的温度，保证温度的稳定性和精确性。同时温度监测及控制系统可以让用户根据自己的使用需求对工作温度和温度控制精度进行自定义。由温度控制芯片控制并维持工作平台的温度稳定，达到使用要求。