[发明专利]加载互锁真空腔室及基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其为处理基板的装置，其中，包括：

设备前端模块，具有加载端口和传送框架；

处理腔室，对基板执行工序处理；以及

加载互锁真空腔室，配置于在所述传送框架与所述处理腔室之间传送的基板的传送路径上，

所述加载互锁真空腔室包括：

壳体，具有内部空间；

分隔板，将所述内部空间划分为第一空间和独立于所述第一空间的第二空间；以及

对准单元，对齐提供至所述第一空间和所述第二空间中的任一个空间的基板的凹口。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述对准单元包括：

支撑板，支撑基板；

旋转轴，旋转所述支撑板；

照射部，将光照射到由所述支撑板支撑的基板的边缘区域；以及

光接收部，配置为接收由所述照射部照射的所述光，根据是否接收所述光来判断由所述支撑板支撑的基板的凹口是否对齐。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

所述照射部和所述光接收部配置在所述壳体的外部，

在所述壳体和所述分隔板中的至少一方上设置有用于使由所述照射部照射的所述光透射的视口。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

所述照射部构成为沿相对于由所述支撑板支撑的基板的上表面倾斜的方向照射所述光。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述加载互锁真空腔室包括检查单元，所述检查单元用于检查提供至所述第一空间和所述第二空间中的另一空间的基板的处理状态。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，

所述检查单元包括：

支撑部件，支撑基板；

旋转部件，旋转所述支撑部件；以及

图像获取部件，获取由所述支撑部件支撑的基板的边缘区域的图像。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，

所述旋转部件包括：

轴，与所述支撑部件结合；以及

轴壳体，包围所述轴，

所述轴与所述轴壳体被磁性流体密封。

8.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，

所述图像获取部件配置在所述壳体的外部，

所述壳体上设置有视口，以使所述图像获取部件能够获取所述图像。

9.一种加载互锁真空腔室，其内部气氛在真空压力气氛与大气压气氛之间转换，其中，包括：

腔室，具有第一空间和独立于所述第一空间的第二空间；

对准单元，对齐提供至所述第一空间中的基板的凹口；以及

检查单元，检查提供至所述第二空间中的基板的处理状态。

10.根据权利要求9所述的加载互锁真空腔室，其中，

所述第一空间是需要在处理腔室中进行处理的未处理的基板被传送至其中的空间，

所述第二空间是在处理腔室中已执行处理后的基板被传送至其中的空间。

11.根据权利要求9或10所述的加载互锁真空腔室，其中，

所述对准单元包括：

支撑板，支撑基板；

支撑垫，设置在所述支撑板的上表面并与基板的下表面接触；

旋转轴，旋转所述支撑板；

照射部，将光照射到由所述支撑板支撑的基板的边缘区域；以及

光接收部，配置为接收由所述照射部照射的所述光，根据是否接收所述光来判断由所述支撑板支撑的基板的凹口是否对齐。

12.根据权利要求11所述的加载互锁真空腔室，其中，

所述支撑垫为O型环形状或壁虎形状。