[发明专利]一种氮化铝纳米花/聚合物复合材料及其制备方法有效
申请号: | 202110228827.8 | 申请日: | 2021-03-02 |
公开(公告)号: | CN113480828B | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 向道平;刘藜 | 申请(专利权)人: | 海南大学 |
主分类号: | C08L61/06 | 分类号: | C08L61/06;C08L63/00;C08K7/24;C01B21/072;C04B35/581;B82Y40/00 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氮化 纳米 聚合物 复合材料 及其 制备 方法 | ||
本发明涉及电子封装热管理材料制备技术领域,尤其涉及一种氮化铝纳米花/聚合物复合材料及其制备方法。所述制备方法包括:A)将铝粉与盐溶液混合,进行超声波空化腐蚀;B)将步骤A)的产物溶液进行抽滤,得到滤饼;C)将滤饼粉碎,与固体氮源混匀后,在含氮气氛下进行氮化反应;D)将氮化反应后的产物进行除碳,得到氮化铝纳米花;E)将氮化铝纳米花、烧结助剂及添加剂在溶剂中均匀混合成悬浊液后,进行定向冷冻成型,再经冷冻干燥后进行烧结,得到多孔氮化铝三维网络骨架;F)在真空条件下,将树脂浸渗进多孔氮化铝三维网络骨架后进行固化,得到氮化铝纳米花/聚合物复合材料。本发明的氮化铝纳米花/聚合物复合材料具有优良的热导率。
技术领域
本发明涉及电子封装热管理材料制备技术领域,尤其涉及一种氮化铝纳米花/聚合物复合材料及其制备方法。
背景技术
本世纪以来,随着科技的快速发展,电子元器件越来越小,芯片的运算量却大幅增长,这导致单位体积电子元器件的发热量也相应大幅增长。功率快速增加引起的电子元器件过热问题极大的影响了其使用性能、服役寿命和安全性。因而,电子元器件的高效散热是一个亟待解决的问题。高分子材料具有成本低、重量轻、可加工性好、吸水率低、电阻率高、耐腐蚀等优点,因而被广泛应用于热管理材料。然而,大多数聚合物表现出较差的导热性能,这限制了其在许多需要高热传导领域的应用。为此,通常解决办法是向聚合物中加入高导热无机填料,从而提高其导热性。目前,聚合物基复合材料的导热填料主要有氧化物、碳化物、氮化物及石墨烯、碳纳米管等等。氮化铝的热膨胀系数低,电绝缘性优良,室温导热率在陶瓷中仅比氧化铍低,且无毒,因而氮化铝是导热聚合物基复合材料的优选填料,在热管理材料中有着广泛的应用前景。
常用的制备氮化铝主要有以下几种方法:(1)铝粉直接氮化法,该法是在氮气气氛中,铝粉直接与氮气化合生成氮化铝粉末,反应温度一般在800~1200℃范围。(2)碳热还原法,该法是在氮气气氛中,氧化铝粉末和碳粉的混合粉末发生碳热氮化反应生成氮化铝粉末,反应温度一般不低于1600℃。(3)自蔓延高温合成法,该法是将铝粉在高压氮气中被外界热源点燃后,利用高化学反应热自维持反应进行,直到铝粉完全转化成为氮化铝粉末。(4)化学气相沉积法,该方法是基于铝的挥发性化合物与氨或氮气的化学反应,从气相中沉积氮化铝粉末。
目前,制备纳米氮化铝大多采用碳热还原法,但该方法也存在一些不足,如纳米氧化铝原料成本较高、原料难以充分混合均匀、完成反应温度较高、反应时间较长,这些因素导致合成纳米氮化铝的成本较高。而且,目前纳米氮化铝研究领域一般限于零维氮化铝粉末、一维氮化铝纳米线等,而对一维以上氮化铝纳米结构研究较少。史忠期等人在专利CN101798071中公布了一种制备花状结构氮化铝的燃烧合成法,但是该方法需要使用高压氮气,并且需要使用较大电流,增加了实验的危险性,而且获得的是亚微米而不是纳米花状氮化铝粉末。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种氮化铝纳米花/聚合物复合材料及其制备方法,本发明制备的氮化铝纳米花/聚合物复合材料具有优良的热导率。
本发明提供了一种氮化铝纳米花/聚合物复合材料的制备方法,包括以下步骤:
A)将铝粉与盐溶液均匀混合,对混合料液进行超声波空化腐蚀;
B)将步骤A)得到的溶液进行抽滤,得到滤饼;
C)将所述滤饼粉碎,并与固体氮源混匀后,在含氮气氛下进行氮化反应;
D)将所述氮化反应后的产物进行除碳,得到氮化铝纳米花;
E)将所述氮化铝纳米花、烧结助剂及添加剂在溶剂中均匀混合成悬浊液后,进行定向冷冻成型,再经冷冻干燥后进行烧结,得到多孔氮化铝三维网络骨架,得到多孔氮化铝三维网络骨架;
F)在真空条件下,将树脂浸渗进所述多孔氮化铝三维网络骨架后,再进行固化,得到氮化铝纳米花/聚合物复合材料。
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