[发明专利]一种用于大尺寸叠瓦电池片的清洗工艺

权利要求书

1.一种用于大尺寸叠瓦电池片的清洗工艺，其特征在于，步骤包括：执行硅片在设定温度下的碱性溶液中清洗一定时间，且在清洗过程中持续通入臭氧；再对清洗后的所述硅片进行漂洗。

2.根据权利要求1所述的一种用于大尺寸叠瓦电池片的清洗工艺，其特征在于，所述碱性溶液为氢氧化钠和水的混合溶液，且氢氧化钠的体积浓度为3-4％；与氢氧化钠混合的水为去离子水。

3.根据权利要求2所述的一种用于大尺寸叠瓦电池片的清洗工艺，其特征在于，氢氧化钠的体积浓度为3.7％。

4.根据权利要求1-3任一项所述的一种用于大尺寸叠瓦电池片的清洗工艺，其特征在于，所述碱性溶液的清洗温度为65-75℃。

5.根据权利要求4所述的一种用于大尺寸叠瓦电池片的清洗工艺，其特征在于，在所述碱性溶液中的清洗时间为2-5min。

6.根据权利要求5所述的一种用于大尺寸叠瓦电池片的清洗工艺，其特征在于，通入臭氧的流量为3-7L/min。

7.根据权利要求1-3、5-6任一项所述的一种用于大尺寸叠瓦电池片的清洗工艺，其特征在于，对清洗后的所述硅片进行漂洗的步骤包括在设定温度下的去离子水液中清洗一定时间。

8.根据权利要求7所述的一种用于大尺寸叠瓦电池片的清洗工艺，其特征在于，所述硅片的漂洗温度为75-85℃。

9.根据权利要求7所述的一种用于大尺寸叠瓦电池片的清洗工艺，其特征在于，所述硅片的漂洗时间为3-6min。

10.根据权利要求1-3、5-6、8-9任一项所述的一种用于大尺寸叠瓦电池片的清洗工艺，其特征在于，在漂洗完所述硅片之后还包括将所述硅片快速风干的步骤。