[发明专利]GO掺杂PQ-PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法和全息光盘有效

专利信息
申请号: 202110085034.5 申请日: 2021-01-21
公开(公告)号: CN112885417B 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 谭小地;陈宇昕;吴天敏 申请(专利权)人: 福建师范大学
主分类号: G16C60/00 分类号: G16C60/00;G11B7/241
代理公司: 天津盈佳知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12224 代理人: 孙宝芸
地址: 350000 福建省福州*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: go 掺杂 pq pmma 聚合物 全息 存储 材料 及其 制备 方法 光盘
【说明书】:

发明公开一种GO掺杂PQ‑PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法和全息光盘,GO掺杂PQ‑PMMA光致聚合物全息存储材料各组分原料重量比:MMA:100wt%,AIBN:1wt%,PQ:1.3wt%,NMP:3wt%,GO:0.0015wt%;其制备成本较低,具备良好的偏振选择性和偏振敏感度,且所制备材料厚度精准可控但光致收缩却可忽略不计;该新型光致聚合物材料具有优异衍射效率和折射率调制度,适合作为全息成像及数据存储领域应用中所需的核心记录材料,可显著提升信息存储容量,在同轴偏光全息信息存储中具有广阔的应用前景;此外,该材料良好的光学特性使其在传统体全息记录领域也颇具应用潜力。

技术领域

本发明属于全息技术领域,具体涉及GO掺杂PQ-PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法和全息光盘。

背景技术

在大数据时代,随着海量数据的大幅产生,数据的存储面临着极大的挑战,体全息存储方法凭借其具有大容量和高传输速度的优势,被认为是一种极具潜力的存储技术。全息存储以光波作为主体,可通过调整振幅、相位和偏振等参量提高光存储密度。近年来,通过利用偏振信息提高全息记录的维度得到了广大的关注,例如:光致折射率变化晶体,偶氮类材料和聚合物分散液晶等诸多偏振敏感材料无法满足全息记录存储的要求,这些材料主要缺点在于其制作工业复杂、价格昂贵、光栅可擦写和材料本身不稳定。

发明内容

本发明提供GO(氧化石墨烯)掺杂PQ-PMMA(菲醌-聚甲基丙烯酸甲酯)光致聚合物全息存储材料及其制备方法和全息光盘,实现光致聚合物材料作为全息存储的优良介质。该材料制备工艺简单,价格低廉,厚度值精准可控但光致收缩可忽略不计,偏振敏感性较好,使得该新型光致聚合物材料成为全息成像及数据存储领域应用中所需的核心记录材料。

为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:

首先,本发明提供GO掺杂PQ-PMMA光致聚合物全息存储材料,其各组分原料的重量比为:MMA:100wt%,AIBN:0.7-1wt%,PQ:1-1.3wt%,GO:0.0005-0.002wt%。

其次,本发明提供上述GO掺杂PQ-PMMA光致聚合物全息存储材料的制备方法,包括以下步骤:

将单层氧化石墨烯纳米片加入到NMP中形成混合溶液,经超声分散,然后将所述混合溶液分散后形成的分散液转移至离心管中,通过所述离心管离心去除溶液中未分散的GO,将离心后的所述分散液按比例加入到MMA的溶液中,并经超声混合;

按比例称量AIBN和PQ,加入经超声混合的所述溶液,将所述溶液经超声振荡进行混合,得到包含有感光剂的溶液;

将具有感光剂的所述溶液放入恒温磁力搅拌器中,在水浴中进行搅拌,得到具有粘稠度的胶体物质;

将所述胶体溶液注入带有聚四氟乙烯的玻璃密封模具中,烘烤反应后取出,并冷却,使其停止聚合并脱模,制得片状材料。

在以上方案中优选的是,将单层氧化石墨烯纳米片加入到NMP中形成混合溶液,经超声分散的时间为1~2小时。

还可以优选的是,按比例称量AIBN和PQ,加入经超声混合的所述溶液,将所述溶液经超声振荡进行混合的时间为30~60分钟。

还可以优选的是,得到具有感光剂的所述溶液中,所述感光剂PQ的含量为1.3wt%。

还可以优选的是,将具有感光剂的所述溶液放入恒温磁力搅拌器中,进行水浴的温度为55~60℃。

还可以优选的是,将具有感光剂的所述溶液放入恒温磁力搅拌器中,进行水浴并搅拌的搅拌转速为600~1000转/分钟。

还可以优选的是,将具有感光剂的所述溶液放入恒温磁力搅拌器中,进行水浴并搅拌的时间为1~2小时。

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