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[发明专利]一种新式全息存储材料及其制备方法-CN202310864628.5在审
发明人： 谭小地;吴俊辉;林枭;李庆东 -专利权人：福建师范大学
申请日： 2023-07-14 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C08F220/14 文献下载
摘要：本发明涉及全息存储材料技术领域，具体涉及一种新式全息存储材料及其制备方法。该材料的原料包括PETA、MMA、PQ和AIBN。该材料通过引入树状分子材料PETA进行改性，改性后材料相较于传统的PQ/PMMA材料，不仅具备无气泡特性且该材料体系的感光灵敏度得到了提升，能显著缩短材料的响应时间，PETA的引入使得该体系材料的光栅衍射效率均匀性和全息性能有了一定的提升。
一种新式全息存储材料及其制备方法

[发明专利]PETMP掺杂PQ/PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法-CN202310864586.5在审
发明人： 谭小地;曾泽艺;林枭;金俊超 -专利权人：福建师范大学
申请日： 2023-07-14 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C08F120/14 文献下载
摘要：本发明属于全息聚合物材料技术领域，具体涉及PETMP掺杂PQ/PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法。该制备方法添加PETMP、MMA、PQ和AIBN，依次进行混合、预聚合和热聚合，得到PETMP掺杂PQ/PMMA光致聚合物全息存储材料。与传统的PQ/PMMA材料进行比较，PETMP掺杂PQ/PMMA光致聚合物全息存储材料记录光栅衍射效率提升到了80％以上，具有更高的折射率调制度，可有效的提高材料的存储容量；与此同时，通过PETMP掺杂也极大的提高了衍射效率，并加快了光响应速度，表现出更好的光学特性，PETMP掺杂PQ/PMMA光致聚合物全息存储材料在全息存储领域中具有广阔的应用前景。
petmp 掺杂 pq pmma 聚合物全息存储材料及其制备方法

[发明专利]NVP掺杂PQ\PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法-CN202310865530.1在审
发明人： 谭小地;李庆东;林枭;吴俊辉 -专利权人：福建师范大学
申请日： 2023-07-14 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C08F220/14 文献下载
摘要：本发明涉及全息存储材料技术领域，具体涉及NVP掺杂PQ\PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法。该NVP掺杂PQ\PMMA光致聚合物全息存储材料，原料包括NVP、MMA、PQ和AIBN。在PQ\PMMA中掺杂NVP，以实现光致聚合物材料作为全息存储的优良介质。该材料制备工艺简单，价格低廉，有较高的衍射效率和感光灵敏度，相较于PQ\PMMA可以更好地用于全息成像及数据存储领域。
nvp 掺杂 pq pmma 聚合物全息存储材料及其制备方法

[发明专利]一种自动制备全息存储材料的系统及方法-CN202310818354.6在审
发明人： 谭小地;杨如鹏;林枭 -专利权人：福建师范大学
申请日： 2023-07-05 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B29C45/14 文献下载
摘要：本发明涉及了一种自动制备全息存储材料的系统及方法，所述载物台上设置有混合器、加热混合器、模具以及烘烤箱，模具包括容器以及压紧机构，所述容器包括基板、垫片以及盖板，垫片设置于所述基板与盖板之间，所述基板与盖板为板状结构，所述垫片为环状结构，所述基板的上表面、垫片的内壁以及盖板的下表面围合形成容器空间，所述压紧机构内设置有用于放置容器的压紧槽，所述压紧槽的侧壁与容器的侧壁之间设置有间隙，所述间隙用于接收容器空间内溢出的全息存储材料，或向容器空间内补偿全息存储材料。所述机械手可用于转运混合器、转运模具以及组装模具。通过该系统能够实现批量化生产，且该系统结构简单、使用方便，具有辽阔的市场前景。
一种自动制备全息存储材料系统方法

[发明专利]用于全息数据存储系统的伺服聚焦方法-CN202310878048.1在审
发明人： 谭小地;范琳琳;林枭;宋海洋 -专利权人：福建师范大学
申请日： 2023-07-18 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G11B7/0065 文献下载
摘要：本发明提出用于全息数据存储系统的伺服聚焦方法，包括激光光源、PBS、准直透镜、1/4波片、物镜、柱透镜、四象限光电探测器；伺服聚焦机构工作时，激光光源的红光入射到PBS后反射的S光通过准直透镜成为平行光，平行光经过1/4波片及物镜聚焦入射到位移台承载的材料处，其由材料的反射层反射的光经过1/4波片使S光转变为P光，P光经过柱透镜后形成的光斑照射到四象限光电探测器的四个象限处；所述伺服聚焦方法通过在平行光方向上调整材料与物镜间的距离进行对焦，使材料中的反射层位于平行光的聚焦入射焦点处，对焦过程包括根据光斑总强度进行的粗对焦、根据光斑形状进行的细对焦；本发明能通过位移台的移动进行实时补偿，保证数据记录和读取的准确性。
用于全息数据存储系统伺服聚焦方法

[发明专利]一种全息存储材料的制备方法及用于制备的模具-CN202310818388.5在审
发明人： 谭小地;杨如鹏;林枭 -专利权人：福建师范大学
申请日： 2023-07-05 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B29C45/14 文献下载
摘要：本发明涉及了一种用于制备全息存储材料的模具，包括：容器，所述容器包括基板、垫片以及盖板，所述垫片设置于所述基板与盖板之间，所述基板与盖板为板状结构，所述垫片为环状结构，所述基板的上表面、垫片的内壁以及盖板的下表面围合形成容器空间；压紧机构，所述压紧机构内设置有用于放置容器的压紧槽，所述压紧槽的侧壁与容器的侧壁之间设置有间隙，所述间隙用于接收容器空间内溢出的全息存储材料，或向容器空间内补偿全息存储材料。避免成型后的全息存储材料边缘产生气泡，提高了全息存储材料的一致性，通过该模具能够实现批量化生产，且该模具结构简单、使用方便，具有辽阔的市场前景。
一种全息存储材料制备方法用于模具

[发明专利]一种用于全息存储技术的二维纳米材料及其制备方法-CN202211338085.5有效
发明人：刘杰;谭小地;林枭;王莉 -专利权人：福建师范大学
申请日： 2022-10-28 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C08F120/14 文献下载
摘要：本发明涉及全息聚合物材料技术领域，具体涉及一种用于全息存储技术的二维纳米材料及其制备方法。该材料由以下质量比的原料制备而成：RGO溶液：MMA：AIBN：PQ)＝2：100：1：1～1.3，所述RGO溶液中RGO纳米粒子的粒径为15～30μm。该二维纳米材料将特定粒径的RGO纳米粒子引入PQ/PMMA材料可大幅度提高全息存储材料性能的正交偏振衍射效率和感光灵敏度。
一种用于全息存储技术二维纳米材料及其制备方法

[发明专利]同轴传统或偏光全息术的标量涡旋光束生成系统及方法-CN202310637527.4在审
发明人：郑淑君;谭小地;林枭 -专利权人：福建师范大学
申请日： 2023-06-01 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： G03H1/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种同轴传统或偏光全息术的标量涡旋光束生成系统及方法，系统包括：激光光源；偏振分束器，用于将激光光源产生的激光分为参考光及信号光；信号光路上依次设有调节系统及第一光阑，所述调节系统包括第一半波片、四分之一波片、第一偏振片、扇形狭缝及第一转向装置及第二转向装置；参考光路上依次设有第一反射镜、贴合在第一反射镜上的圆形遮挡板、第二半波片及第二偏振片；分光棱镜；第一透镜，用于对分光棱镜合聚后的光束进行汇聚；全息记录材料，设置在第一透镜的焦点位置，用于对第一透镜汇聚的光束进行干涉及记录。而所采用的元件简单、成本低，生成同轴传统的标量涡旋光束或偏光全息术的标量涡旋光束的制造工艺简单。
同轴传统偏光全息标量涡旋光束生成系统方法

[发明专利]GO掺杂PQ-PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法和全息光盘-CN202110085034.5有效
发明人： 谭小地;陈宇昕;吴天敏 -专利权人：福建师范大学
申请日： 2021-01-21 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G16C60/00 文献下载
摘要：本发明公开一种GO掺杂PQ‑PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法和全息光盘，GO掺杂PQ‑PMMA光致聚合物全息存储材料各组分原料重量比：MMA：100wt％，AIBN：1wt％，PQ：1.3wt％，NMP：3wt％，GO：0.0015wt％；其制备成本较低，具备良好的偏振选择性和偏振敏感度，且所制备材料厚度精准可控但光致收缩却可忽略不计；该新型光致聚合物材料具有优异衍射效率和折射率调制度，适合作为全息成像及数据存储领域应用中所需的核心记录材料，可显著提升信息存储容量，在同轴偏光全息信息存储中具有广阔的应用前景；此外，该材料良好的光学特性使其在传统体全息记录领域也颇具应用潜力。
go 掺杂 pq pmma 聚合物全息存储材料及其制备方法光盘

[实用新型]同轴单像素参考光非干涉式相位读取光学系统-CN202320014964.6有效
发明人：林枭;谭小地;郑其静;任宇红;郝建颖 -专利权人：福建师范大学
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G03H1/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了同轴单像素参考光非干涉式相位读取光学系统，包括激光器，以及沿激光器出射光光轴依次设置的针孔滤波器、扩束透镜、第一光阑、第一中继透镜、第二中继透镜、半波片和分束镜；分束镜的透射光光轴方向上设置有空间光调制器，反射光光轴方向上依次设置有第三中继透镜、记录材料、第四中继透镜、衰减片和反射镜；反射镜的反射光光轴方向上依次设置有第五中继透镜、第二光阑、第六中继透镜、重建光平面、傅里叶透镜和CMOS传感器；CMOS传感器与迭代计算处理器数据传输连接；其结构合理，仅需要在重建光平面后加一个傅里叶透镜就能够得到傅里叶强度图，便于操作。
同轴像素参考干涉相位读取光学系统

[发明专利]同轴单像素参考光非干涉式相位读取方法和装置-CN202310008700.4在审
发明人：林枭;谭小地;郑其静;任宇红;郝建颖 -专利权人：福建师范大学
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G03H1/00 文献下载
摘要：本发明公开了同轴单像素参考光非干涉式相位读取方法和装置，所述读取方法包括步骤S1：将参考光设置为单像素参考光，输入初始猜测相位调节增大重建光平面上的单像素参考光光强；步骤S2：获取测得光强分布I，通过同轴迭代傅里叶变换算法进行迭代计算，得到信息光相位通过增大单像素参考光能量对单幅频谱进行相位重建，能够减少参考光所占空间，提高单幅数据页容量，提高重建速度；仅需要拍摄单幅图像，相位读取操作简单，读取速度快，读取结果准确、稳定；其读取装置，结构合理，仅需要在重建光平面后加一个傅里叶透镜就能够得到傅里叶强度图，便于操作。
同轴像素参考干涉相位读取方法装置

[发明专利]用于三维显示的磁悬浮旋转装置和三维显示系统-CN202011096928.6有效
发明人： 谭小地;罗玉强;林枭 -专利权人：福建师范大学
申请日： 2020-10-14 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： H02N15/00 文献下载
摘要：本发明属于裸眼三维显示设备技术领域，公开了用于三维显示的磁悬浮旋转装置和三维显示系统，其三维显示的磁悬浮旋转装置的旋转盘和底座上分别安装有磁块；旋转盘的侧壁处设置有用于保持旋转盘的中心轴线静止的、如横向滑轮的限位机构，磁悬浮旋转装置还包括用于驱动旋转盘旋转的动力机构；其采用磁悬浮结构作为旋转装置，其无机械接触、摩擦阻力小、旋转速度上限高及无噪音，能扩大三维显示系统的显示面积及系统运转的平稳性；能解决传统的机械旋转结构及其旋转结构重量太重的问题，能通过磁悬浮的结构解决显示面积过小的问题，提高高速旋转的磁悬浮旋转结构的稳定平衡效果，提高成像效果，减小工作噪声，增大成像面积。
用于三维显示磁悬浮旋转装置系统

[发明专利]一种生成矢量、标量涡旋及矢量涡旋光束的装置及方法-CN202211559100.9在审
发明人：郑淑君;谭小地;林枭 -专利权人：福建师范大学
申请日： 2022-12-06 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G02B27/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种生成矢量、标量涡旋及矢量涡旋光束的装置及方法，所述装置包括：偏振分光棱镜，偏振分光棱镜用于将激光光源产生的激光分为信号光及参考光；调节系统，调节系统包括第一半波片、第二偏振片、扇形狭缝、第一旋转装置、第二旋转装置及第三旋转装置，调节系统用于通过第一旋转装置、第二旋转装置及第三旋转装置调节第一半波片、第二偏振片及扇形狭缝之间的转速比调节信号光的相位及偏振态得到矢量光束、标量涡旋光束或矢量涡旋光束；偏振敏感全息记录材料，偏振敏感全息记录材料用于对射入的矢量光束、标量涡旋光束或矢量涡旋光束记录。可以灵活制备矢量光束、标量涡旋光束或矢量涡旋光束，同时偏振敏感全息材料制作工艺简单、成本低。
一种生成矢量标量涡旋光束装置方法

[发明专利]基于嵌入式数据的非干涉相位检出方法和检出装置-CN202110860462.0有效
发明人：林枭;谭小地;郝建颖;任宇红 -专利权人：福建盘盛信息光学有限公司
申请日： 2021-07-28 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G01J9/00 文献下载
摘要：本发明属于全息数据存储技术领域，公开基于嵌入式数据的非干涉相位检出方法和检出装置，所述检出方法包括步骤：在编码阶段，将嵌入式数据与未知相位数据一同编入原始相位数据中；将所述原始相位数据记录到全息材料中，并在信息读取后，获得待检测相位数据；将所述待检测相位数据傅里叶变换的频谱强度分布，经迭代计算得到检出相位数据；其通过利用嵌入式数据为迭代计算提供强有力的约束条件，使迭代次数缩短，提升相位检出精度，且能调整嵌入式数据的比例，控制迭代次数以满足不同应用的需要；能保证迭代快速收敛至最优解，大大缩短所需迭代次数，提高数据转换速度。
基于嵌入式数据干涉相位检出方法装置

[发明专利]一种动态曝光调控系统及矢量光场生成装置-CN202110986979.4有效
发明人：黄璐;谭小地;张远颖 -专利权人：福建师范大学
申请日： 2021-08-26 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： G03H1/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种动态曝光调控系统及矢量光场生成装置，所述动态曝光调控系统包括半波片、扇形狭缝、第一旋转机构及第二旋转机构；所述半波片设置在第一旋转机构上，所述扇形狭缝设置在第二旋转机构上；所述第一旋转机构及第二旋转机构用于调节半波片旋转角度与扇形狭缝方位角配向的相对速度之比，生成不同阶数的矢量光场。由半波片及扇形狭缝组成的动态曝光调控系统，通过第一旋转机构及第二旋转机构调节半波片旋转角度与扇形狭缝方位角配向的相对速度之比，生成不同阶数的矢量光场，不需要特殊设计的光学元件，且结构简单，操作方便，生成速度快，可以快速生成不同阶数的矢量光场。
一种动态曝光调控系统矢量生成装置

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