[发明专利]驱动基板及制作方法、显示面板在审
申请号: | 202110052271.1 | 申请日: | 2021-01-15 |
公开(公告)号: | CN112599478A | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
发明(设计)人: | 顾杨 | 申请(专利权)人: | 苏州芯聚半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/84 | 分类号: | H01L21/84;H01L33/58;H01L27/12;H01L25/13;G09F9/33 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 常伟 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 驱动 制作方法 显示 面板 | ||
1.一种驱动基板的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:
S1、提供衬底;
S2、形成遮光层于所述衬底一侧的表面上;
S3、提供掩膜版,所述掩膜版层叠于所述遮光层上方,所述掩膜版包括若干镂空区;
S4、干法蚀刻所述遮光层形成若干斜向开槽和若干第一遮光单元,每一斜向开槽与每一镂空区对应,每一第一遮光单元具有靠近所述衬底的第一侧边的倾斜侧壁;
S5、移动掩膜版,以使每一第一遮光单元靠近所述衬底的第一侧边的倾斜侧壁自对应的镂空区中露出;以及
S6、干法蚀刻所述倾斜侧壁,形成第二遮光单元;
其中,所述第二遮光单元的剖面形状为正梯形结构。
2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,
所述S4还包括:朝向第一方向倾斜所述衬底和所述掩膜版,干法蚀刻所述遮光层形成若干第一斜槽和若干第一遮光单元;
所述S5还包括:朝向第二方向倾斜所述衬底和所述掩膜版;
其中,所述第一方向和所述第二方向相交,且所述第一方向和所述第二方向形成的夹角为90-180°。
3.根据权利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述第一方向和所述第二方向镜像对称。
4.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述遮光层的膜层厚度为1μm-100μm。
5.根据权利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述遮光层的膜层厚度为10μm -40μm。
6.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述掩膜版和所述遮光层之间的间距为0~100μm。
7.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述干法蚀刻采用的气体为选自Ar、O2、CF4中的一种或几种的组合。
8.一种驱动基板,其特征在于,所述驱动基板为采用权利要求1-7中任意一项所述的制作方法制得。
9.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:
如权利要求8所述的驱动基板,任意相邻的第二遮光单元之间具有容置槽;以及
若干微发光二极管,每一微发光二极管设置于对应的容置槽中。
10.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括量子点层,所述量子点层填充于对应的容置槽中,且覆盖在对应的微发光二极管上方。
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