[发明专利]一种抗变形低反射玻璃及其制备方法

说明书

本发明公开了一种抗变形低反射玻璃及其制备方法，包括抗变形低反射玻璃本体，所述抗变形低反射玻璃本体的表面一侧设有第一纳米保护层，所述第一纳米保护层的侧面设有第一磁控溅射膜，所述第一磁控溅射膜的侧面设有第一玻璃原片，所述第一玻璃原片的侧面设有第一特殊处理层，所述第一特殊处理层的侧面设有中间层，所述中间层的侧面设有第二特殊处理层，所述第二特殊处理层的侧面设有第二玻璃原片，所述第二玻璃原片的侧面设有第二磁控溅射膜，所述第二磁控溅射膜的侧面设有第二纳米保护层。本发明的玻璃具有了抗变形抗弯曲性能，有利于加强展柜的密闭性，防止文物保存环境被破坏。

技术领域：

本发明涉及玻璃制造技术领域，具体为一种抗变形低反射玻璃及其制备方法。

背景技术：

展柜玻璃由于外力挤压、版面较大、玻璃自重等原因，普遍存在弯曲变形，有的弯曲变形甚至达到2～3cm之多，导致两块玻璃平面前后错位，使得密封条撕裂，随着时间的推移会越来越严重，最终导致玻璃间出现缝隙，因弯曲问题造成密闭性差，无法保证展柜内温湿度而造成对文物的侵蚀，破坏了文物保护环境；目前展柜玻璃在加工时为了追求生产效率往往压缩工序，降低热合、养护等时间，导致加工出的玻璃强度和韧性不够，在安装后容易造成玻璃弯曲变形；对于需要严格控制微环境或者密闭性、透光性要求很高的展柜夹层玻璃来说，现有的这种夹层玻璃无法很好的满足要求。

发明内容：

本发明的目的在于提供一种抗变形低反射玻璃及其制备方法，以解决上述背景技术中提出的现有夹层玻璃容易弯曲变形，密闭性差，造成对文物的侵蚀的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种抗变形低反射玻璃及其制备方法，包括抗变形低反射玻璃本体，其特征在于，所述抗变形低反射玻璃本体由第一纳米保护层、第一磁控溅射膜、第一玻璃原片、第一特殊处理层、中间层、第二特殊处理层、第二玻璃原片、第二磁控溅射膜以及第二纳米保护层组成，所述抗变形低反射玻璃本体的表面一侧设有第一纳米保护层，所述第一纳米保护层的侧面设有第一磁控溅射膜，所述第一磁控溅射膜的侧面设有第一玻璃原片，所述第一玻璃原片的侧面设有第一特殊处理层，所述第一特殊处理层的侧面设有中间层，所述中间层的侧面设有第二特殊处理层，所述第二特殊处理层的侧面设有第二玻璃原片，所述第二玻璃原片的侧面设有第二磁控溅射膜，所述第二磁控溅射膜的侧面设有第二纳米保护层；

所述第一纳米保护层、第二纳米保护层采用无机纳米氧化硅为主体添加纳米氧化锡、纳米氧化钨、纳米铂金等制成，所述第一磁控溅射膜、第二磁控溅射膜采用纳米陶瓷材质经真空磁控溅射镀成，所述第一玻璃原片和第二玻璃原片为超白钠钙硅酸盐浮法玻璃，所述中间层为SGP离子型玻璃夹层胶片，所述第一特殊处理层、第二特殊处理层为改性聚酯树脂夹层胶水层，由以下重量百分比的原料制成：聚酯树脂40～75％、聚氨酯树脂15％～20％、硅烷耦合剂5～10％、异丙醇2～6％、硬度调节剂1～5％、固化剂0.5～4％、光敏剂0.001～0.005％、引发剂0.01～0.0001％以及余量的水；

所述抗变形低反射玻璃本体采用以下步骤制备而成：

步骤一，原片切割：将第一玻璃原片和第二玻璃原片进行切割、粗磨、清洗并烘干；

步骤二，胶片切割：将中间层按照第一玻璃原片和第二玻璃原片的尺寸进行切割，并进行表面清理；

步骤三，胶片涂胶：在中间层的两面涂覆改性聚酯树脂胶水层，形成第一特殊处理层和第二特殊处理层；

步骤四，夹层合片：将涂覆第一特殊处理层和第二特殊处理层后的中间层放入第一玻璃原片和第二玻璃原片之间进行夹层合片形成夹层玻璃基片，夹合完成后再将其进行预热；