[发明专利]一种抗变形低反射玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种抗变形低反射玻璃及其制备方法，包括抗变形低反射玻璃本体(1)，其特征在于，所述抗变形低反射玻璃本体(1)由第一纳米保护层(2)、第一磁控溅射膜(3)、第一玻璃原片(4)、第一特殊处理层(5)、中间层(6)、第二特殊处理层(7)、第二玻璃原片(8)、第二磁控溅射膜(9)以及第二纳米保护层(10)组成，所述抗变形低反射玻璃本体(1)的表面一侧设有第一纳米保护层(2)，所述第一纳米保护层(2)的侧面设有第一磁控溅射膜(3)，所述第一磁控溅射膜(3)的侧面设有第一玻璃原片(4)，所述第一玻璃原片(4)的侧面设有第一特殊处理层(5)，所述第一特殊处理层(5)的侧面设有中间层(6)，所述中间层(6)的侧面设有第二特殊处理层(7)，所述第二特殊处理层(7)的侧面设有第二玻璃原片(8)，所述第二玻璃原片(8)的侧面设有第二磁控溅射膜(9)，所述第二磁控溅射膜(9)的侧面设有第二纳米保护层(10)；

所述第一纳米保护层(2)、第二纳米保护层(10)采用无机纳米氧化硅为主体添加纳米氧化锡、纳米氧化钨、纳米铂金等制成，所述第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)采用纳米陶瓷材质经真空磁控溅射镀成，所述第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)为超白钠钙硅酸盐浮法玻璃，所述中间层(6)为SGP离子型玻璃夹层胶片，所述第一特殊处理层(5)、第二特殊处理层(7)为改性聚酯树脂夹层胶水层，由以下重量百分比的原料制成：聚酯树脂40～75％、聚氨酯树脂15％～20％、硅烷耦合剂5～10％、异丙醇2～6％、硬度调节剂1～5％、固化剂0.5～4％、光敏剂0.001～0.005％、引发剂0.01～0.0001％以及余量的水；

所述抗变形低反射玻璃本体(1)采用以下步骤制备而成：

步骤一，原片切割：将第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)进行切割、粗磨、清洗并烘干；

步骤二，胶片切割：将中间层(6)按照第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)的尺寸进行切割，并进行表面清理；

步骤三，胶片涂胶：在中间层(6)的两面涂覆改性聚酯树脂胶水层，形成第一特殊处理层(5)和第二特殊处理层(7)；

步骤四，夹层合片：将涂覆第一特殊处理层(5)和第二特殊处理层(7)后的中间层(6)放入第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)之间进行夹层合片形成夹层玻璃基片，夹合完成后再将其进行预热；

步骤五，高压热合：将夹合预热后的夹层玻璃基片放入辊压机进行加热滚压、排气和封边，再放入高压釜中进行高压热合,高压热合时温度逐步从50℃升温至130～140℃，压力逐步从0.1Mpa升至1.25～1.30Mpa，升温时间为240～300min，然后快速降温至40～45℃，降温时间为30～40min，使中间层(6)与第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)完全粘合为一体；

步骤六，真空镀膜：将高压热合后的夹层玻璃上下两面分别通过真空磁控溅射镀膜形成第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)；

步骤七，粘合保护层：在第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)上粘合第一纳米保护层(2)、第二纳米保护层(10)，形成抗变形低反射玻璃半成品；

步骤八，养护固化：将抗变形低反射玻璃半成品进行养护固化，养护保持温度为22～25℃，相对湿度为50～65％，养护时间至少48h以上；

步骤九，热绷处理：采用热绷炉对抗变形低反射玻璃半成品进行热绷处理，热绷处理包括三个阶段：第一阶段温度逐步从20～25℃升温至35～40℃，升温时间5～10min，保温温度30～35℃，恒温时间5～10min；第二阶段温度逐步从35～40℃升温至55～65℃，升温时间10～15min，保温温度55～60℃，恒温时间10～15min；第三阶段温度逐步从55～65℃升温至100～105℃，升温时间15～25min，保温温度100～105℃，恒温时间60～75min；

步骤十，表面处理：进行表面抛光打磨清洗，形成抗变形低反射玻璃成品；

步骤十一，质量检测：采用玻璃缺陷检测装置进行表面质量检测。

2.根据权利要求1所述的一种抗变形低反射玻璃及其制备方法，其特征在于：所述第一纳米保护层(2)、第二纳米保护层(10)的厚度为10～15μm。