[发明专利]显示面板以及显示装置有效

专利信息
申请号: 202110017059.1 申请日: 2021-01-07
公开(公告)号: CN112838099B 公开(公告)日: 2023-07-04
发明(设计)人: 肖偏;龙思邦 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/15;H10K59/131
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 吕姝娟
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 以及 显示装置
【说明书】:

发明提供了显示面板以及显示装置,该显示面板包括第一金属层和设于第一金属层上的绝缘层;其中,第一金属层包括第一重叠区域,第一重叠区域为第一金属层和绝缘层重叠的区域,第一重叠区域包括至少一个镂空区域;该方案可以减少第一金属层和绝缘层的正对面积,以减小沉积在第一金属层上的负离子浓度和正离子浓度的差异性,从而提高绝缘层的致密性。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及显示器件的制造领域,具体涉及显示面板以及显示装置。

背景技术

Mini LED(Mini Light Emitting Diode ,亚毫米发光二极管)技术为在芯片上集成尺寸在100μm量级的LED阵列的技术,利用该技术制成的Mini LED显示面板具备区域亮度可调、高显色性、高对比度等优点。

目前,有源选址驱动的Mini LED面板中部分金属线传导的电流较大,因此该金属线的宽度也相应设置的较大。后期在该金属线上通过PVD(Physical Vapour Deposition,物理气相沉积)形成绝缘层的过程中,该金属线靠近靶材的一侧带正电,较大的宽度导致该金属线和等离子体的正对面积较大,金属线靠近靶材的一侧会吸引等离子体中较多的负离子以及排斥等离子体中较多的正离子,导致等离子体中的负离子和正离子无法均匀地沉积在金属线上,造成绝缘层中的负离子浓度和正离子浓度差异过大,降低了绝缘层的致密性。

综上所述,有必要提供可以提高绝缘层的致密性的显示面板以及显示装置。

发明内容

本发明目的在于提供显示面板以及显示装置,包括第一金属层和设于第一金属层上的绝缘层,通过将第一金属层和绝缘层重叠的区域设置为包括至少一个镂空区域,解决了现有技术中因金属线和等离子体的正对面积较大,导致等离子体中的负离子和正离子无法均匀地沉积在金属线上,导致形成的绝缘层的致密性较低的问题。

本发明实施例提供一种显示面板,所述显示面板包括第一金属层和设于所述第一金属层上的绝缘层;

其中,所述第一金属层包括第一重叠区域,所述第一重叠区域为所述第一金属层和所述绝缘层重叠的区域,所述第一重叠区域包括至少一个镂空区域。

在一实施例中,所述至少一个镂空区域中其中一个镂空区域的形状为矩形、圆形或者锯齿形。

在一实施例中,所述至少一个镂空区域包括多个镂空区域,所述多个镂空区域阵列排布或者所述多个镂空区域平行排布。

在一实施例中,所述绝缘层包括:

多个绝缘部,所述多个绝缘部间隔设置;

所述第一重叠区域包括:

多个第一子重叠区域,所述多个第一子重叠区域为所述第一金属层和所述绝缘层重叠的多个区域,所述多个第一子重叠区域中每一个第一子重叠区域包括至少一个镂空区域。

在一实施例中,所述第一金属层还包括:

多个第一连接区域,所述多个第一子重叠区域中相邻的两个第一子重叠区域之间包括一个第一连接区域,所述第一连接区域连接对应的两个第一子重叠区域。

在一实施例中,所述第一连接区域为连续的区域。

在一实施例中,所述第一连接区域的宽度大于对应的两个第一子重叠区域的宽度。

在一实施例中,所述显示面板还包括:

第二金属层,所述第二金属层设于所述绝缘层远离所述第一金属层的一侧,所述第二金属层包括第二重叠区域,所述第二重叠区域为所述第二金属层和所述绝缘层重叠的区域,所述第二重叠区域包括至少一个镂空区域。

本发明实施例还提供一种显示装置,所述显示装置包括任一如上所述的显示面板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110017059.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top