[发明专利]防积雪覆膜形成用组合物和防积雪覆膜在审

专利信息
申请号: 202080079969.6 申请日: 2020-11-18
公开(公告)号: CN114729228A 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 山口央基;井上僚;贺川米基璐;森田正道 申请(专利权)人: 大金工业株式会社
主分类号: C09D201/02 分类号: C09D201/02
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;张岑尧
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 积雪 形成 组合
【权利要求书】:

1.一种防积雪覆膜形成用组合物,其特征在于,含有:

微粒被第一聚合物覆盖而成的复合颗粒;和涂料成分。

2.如权利要求1所述的防积雪覆膜形成用组合物,其特征在于:

所述涂料成分包含具有反应性官能团的化合物。

3.如权利要求1所述的防积雪覆膜形成用组合物,其特征在于:

所述涂料成分包含具有反应性官能团的聚合物和固化剂。

4.如权利要求1~3中任一项所述的防积雪覆膜形成用组合物,其特征在于:

所述第一聚合物包含具有基于下述通式(1)所示的化合物的结构单元的聚合物,

式中,X表示氢原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、CFX1X2基团、氰基、碳原子数1~6的直链状或支链状的氟代烷基、取代或非取代的苄基、取代或非取代的苯基、或碳原子数1~20的直链状或支链状烷基,其中,X1和X2相同或不同,为氢原子、氟原子或氯原子;Y表示价键、可以具有氧原子的碳原子数1~10的烃基、-CH2CH2N(R1)SO2-基团、-CH2CH(OY1)CH2-基团或-(CH2)nSO2-基团,其中,式-CH2CH2N(R1)SO2-中,R1为碳原子数1~4的烷基,式的右端与Ra键合,左端与O键合,式-CH2CH(OY1)CH2-中,Y1为氢原子或乙酰基,式的右端与Ra键合,左端与O键合,式-(CH2)nSO2-中,n为1~10,式的右端与Ra键合,左端与O键合;Ra表示碳原子数20以下的直链状或支链状的烷基、碳原子数6以下的直链状或支链状的氟代烷基、或分子量400~5000的聚醚基或分子量400~5000的氟代聚醚基。

5.一种防积雪覆膜,其特征在于,含有:

微粒被第一聚合物覆盖而成的复合颗粒;和粘合剂成分。

6.如权利要求5所述的防积雪覆膜,其特征在于:

所述粘合剂成分包含具有反应性官能团的化合物的固化物。

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