[发明专利]粒子束系统及其用于灵活设置单独粒子束的电流强度的用途在审

专利信息
申请号: 202080054165.0 申请日: 2020-05-23
公开(公告)号: CN114503237A 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: S.舒伯特;D.蔡德勒;G.梅塔利迪斯;H.弗里茨;R.伦克 申请(专利权)人: 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司
主分类号: H01J37/09 分类号: H01J37/09;H01J37/12;H01J37/26;H01J37/28
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王蕊瑞
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 粒子束 系统 及其 用于 灵活 设置 单独 电流强度 用途
【说明书】:

本发明涉及一种粒子束系统,特别是一种多束粒子显微镜,其中可在不改变结构的情况下灵活并在较大数值范围内设定单独粒子束的电流强度。在此,根据本发明的粒子束系统包括聚光透镜系统、具有特定前反电极和前多孔径板的前多透镜阵列以及多透镜阵列。该系统包括控制器,其设置成向聚光透镜系统和前反电极提供可调节的激发,使得带电粒子能够以远心方式入射在前多孔径板上。

技术领域

本发明涉及以多个粒子束工作的粒子束系统。

背景技术

就像单光束粒子显微镜一样,多光束粒子显微镜可用于在微观尺度上分析物体。例如,可使用这些粒子显微镜记录表示物体表面的物体影像。以这种方式,例如可以分析表面的结构。在单光束粒子显微镜中,使用带电粒子(例如电子,正电子,μ介子或离子)的单独粒子束来分析物体,而在多光束粒子显微镜中,则使用多个粒子束用于此目的。将多个粒子束(也称为束)同时引导到物体表面上,在此同时,与同一时段内的单光束粒子显微镜相比,可采样并分析显著更大的物体表面积。

WO 2005/024 881 A2揭示一种电子显微镜系统形式下的多粒子束系统,其使用许多电子束来操作,以便并行使用电子束的集束来扫描要检查的物体。通过将电子源所产生的电子束指引至具有多开口的多孔板,来产生该电子束的集束。电子束的一部分电子撞击该多孔板并由此板吸收,并且电子束的其他部分穿过该多孔板内的开口,如此在电子束在每一开口下游的电子束路径内成形,该电子束的截面由该开口的截面所界定。更进一步,该电子束路径上游内和/或该多孔板下游内所提供合适选取的电场具有该多孔板内每一开口都当成一透镜,让该电子束通过该开口,如此该电子束聚焦在与该多孔板有段距离的平面内。其中形成电子束焦点的平面由下游光学单元成像在要检查的物体的表面上,如此撞击该物体的个别电子束聚焦成为主电子束。在此产生从物体发出的相互作用产物,例如背向散射电子或二次电子,其形成第二电子束并通过另一个光学单元引导至检测器上。在此每一二次电子束都撞击在一分离的检测器元件上,因此由该检测器元件检测到的电子强度提供相应主电子束撞击物体的位置上与该物体有关的信息。主电子束的集束有系统地扫描过物体的表面,以便以传统用于扫描电子显微镜的方式产生该物体的电子显微图像。

实际上,在所描述多粒子束系统中的粒子光学成像范围内的高分辨率是高度相关的。分辨率取决于物平面中的数值孔径以及各个粒子束的束电流。原则上,由于衍射,以下内容适用于无像差光学单元:物平面的数值孔径越大,分辨率越好,因为这允许在物平面中获得较小的照明点。单个粒子束的束电流越小,分辨率越好。此处,各个粒子束的数值孔径和束电流的值通过成像比例尺紧密相关或彼此关联。像差是影响分辨率的其他因素,这些影响以不同方式取决于数值孔径。在已知工作点上,特别是在指定的束电流下,并在设定系统参数(例如,像差系数、光源的图像表示倍率、束电流)下,在任何情况下样品处的数值孔径都存在一值,其在物体上单个粒子束的光斑大小最小。在此,数值孔径通常仅针对系统的一个工作点进行优化,并且在此,尽管进行了所有计算,但数值孔径对于此工作点可能也不是最佳的。

因此,希望能够改变多粒子束系统的数值孔径。这将允许在操作期间改进或最佳化分辨率。此外,期望针对特定的工作点并且特别是针对特定的束电流强度来改善或最佳化分辨率,或者相反地,希望针对所要分辨率在较大值范围内连续且尽可能灵活地设定束电流强度,而不必对多粒子束系统进行结构修改。

发明内容

因此,本发明的目的是提供一种粒子束系统,该粒子束系统允许独立地并且在较大的数值范围内,即特别是以简单的方式并且没有对粒子束系统进行结构修改,针对最佳化分辨率设定束电流与数值孔径的相应最佳化。在此,应可能但不是必须改变其他粒子光学参数,例如,入射到样品上时各个粒子束之间的距离(所谓的“间距”)。

通过专利独立权利要求的主题可实现该目的。根据专利从属权利要求,本发明的有利实施例是显而易见的。

本专利申请案主张申请号为DE 10 2019 005 362.1的德国专利申请案以及申请号为PCT/DE2020/000101的国际专利申请案的优先权,这两申请案揭露的完整内容通过引用方式并入本申请中。

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