[发明专利]用于制造具有承载基底的显示器的方法、根据该方法制造的承载基底和确定用于柔性的显示器的覆盖玻璃

权利要求书

1.一种用于制造具有承载基底(1)、尤其由玻璃构成的承载基底的显示器的方法，其具有至少在承载基底(1)的预先确定的区域(2)中柔性的、可弯曲的和/或弹性的特性，其中，多个凹部(6)借助蚀刻方法，由于材料去除而被引入所述承载基底(1)中，其方式是，在所述承载基底(1)的区域(2)内，借助激光辐射，将改性(5)沿至少一个闭合的和/或线形的轮廓，和/或将点状的改性(5)引入所述承载基底(1)中，并且至少在所述区域(2)内，将至少一个柔性的、可弯曲的和/或弹性的层(4)施加到所述承载基底(1)上，并且随后，所述承载基底(1)的背对所述层(4)的侧面经受蚀刻作用，通过所述蚀刻作用实现激光改性的区域(2)的承载基底(1)的沿所述至少一个闭合的和/或线形的轮廓和/或在点状的改性(5)上的材料去除，直到因此产生的凹部(6)至少在承载基底(1)的材料厚度(D)的主要的部分上延伸，尤其在所述层(4)与承载基底(1)的背对所述层(4)的外表面(11)之间延伸。

2.一种用于制造用于显示器的承载基底(1)的方法，其具有至少在承载基底(1)的预先确定的区域(2)中柔性的、可弯曲的和/或弹性的特性，其中，多个凹部(6)借助蚀刻方法，由于材料去除而被引入所述承载基底(1)中，其方式是，在所述承载基底(1)的区域(2)内，借助激光辐射，将改性(5)沿至少一个闭合的和/或线形的轮廓，和/或将点状的改性(5)引入所述承载基底(1)中，并且至少在所述区域(2)内，将至少一个柔性的、可弯曲的和/或弹性的层(4)施加到所述承载基底(1)上，并且随后，所述承载基底(1)的背对所述层(4)的侧面经受蚀刻作用，通过所述蚀刻作用实现激光改性的区域(2)的承载基底(1)的沿所述闭合的和/或线形的轮廓和/或在点状的改性(5)上的材料去除，直到因此产生的凹部(6)至少在承载基底(1)的材料厚度(D)的主要的部分上延伸，尤其在所述层(4)与承载基底(1)的背对所述层(4)的外表面(11)之间延伸，并且由此形成固体接头。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所述承载基底(1)上施加牺牲层作为所述层(4)的载体，并且继续蚀刻过程，直至到达牺牲层，从而出现牺牲层的溶解或消除，并且最后出现所述承载基底(1)的通过所述轮廓限制的表面的从周围的玻璃基底和从所述层(4)的连接的分离。

4.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其特征在于，在所述承载基底(1)的所述区域(2)中产生多个平行的轮廓。

5.根据前述权利要求中的至少一项所述的方法，其特征在于，薄层结构元件、尤其是有机发光二极管(OLED)被施加作为所述层(4)，和/或所述层(4)用作薄层结构元件的载体。

6.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其特征在于，在施加所述层(4)之前，将所述改性(5)引入承载基底(1)中，和/或在层施布结束后实施蚀刻过程。

7.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其特征在于，所述层(4)被施加到所述承载基底(1)的由于材料去除而柔性的区域上，并且被施加到所述承载基底(1)的相邻的区域上。

8.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其特征在于，借助抗蚀剂，将蚀刻作用限制在所述承载基底(1)的部分区域上。

9.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其特征在于，柔性的区域中的凹部填充有柔性的和/或可伸展的聚合物。

10.一种确定用于柔性的显示器的承载基底(1)，所述承载基底具有至少一个覆盖承载基底(1)的柔性的区域(2)的层(4)，利用根据前述权利要求中的至少一项所述的方法来制造所述承载基底(1)。

11.根据权利要求9所述的基底，其特征在于，所述层(4)具有薄层结构元件、尤其是有机发光二极管(OLED)，和/或所述层(4)用作薄层结构元件的载体。