[发明专利]全息光学元件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202080030260.7 申请日: 2020-09-24
公开(公告)号: CN113728257A 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 金成妍;宋民守;秋素英;黄惠垣 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: G02B5/32 分类号: G02B5/32;G02B5/18;G03F7/00;G03F7/16
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 梁笑;俱玉云
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 全息 光学 元件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种包括全息光栅的全息光学元件的制造方法,所述制造方法包括:

通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a);以及

通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b),

其中在所述步骤(a)中,施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化。

2.根据权利要求1所述的制造方法,其中所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加。

3.根据权利要求1所述的制造方法,其中在所述步骤(a)中,将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处,并且喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化。

4.根据权利要求1所述的制造方法,其中所述步骤(a)包括:

将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a-1);和

通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a-2),以及

在所述步骤(a-2)中,在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离。

5.根据权利要求1所述的制造方法,其中所述步骤(a)包括:

在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a-1);和

移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a-2),以及

在所述步骤(a-2)中,在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者。

6.根据权利要求1所述的制造方法,其中在所述步骤(a)中,在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂,并且将所述光敏树脂干燥。

7.一种全息光学元件,包括形成在基底的一个表面上的光敏树脂涂层和记录在所述光敏树脂涂层中的多个全息光栅,

其中所述光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化,以及所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化。

8.根据权利要求7所述的全息光学元件,其中所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加,以及所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加。

9.根据权利要求7所述的全息光学元件,其中所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上,以及所述全息光栅具有相同的宽度。

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