[发明专利]流路形成区块以及具备流路形成区块的流体控制装置

说明书

一种流路形成区块，具备：第一区块；第二区块，其被安装于第一区块，且具有第一流路以及第二流路；垫片，其被设置于第一区块与第二区块之间，且对第一区块和第二区块之间进行密封，第二区块具有被形成于与垫片对置的面、并将第一流路和第二流路连通的连通部，垫片具有被形成于与连通部对置的位置的凹部。

技术领域

本发明涉及一种流路形成区块及具备流路形成区块的流体控制装置。

背景技术

在日本特开JP2014-152874A中，公开了一种以通过被形成于下部机体的V字流路来将流体控制机器彼此连通的方式而被构成的处理气体(process gas)分流供给装置。

发明内容

在日本特开JP 2014-152874A这样的流体控制装置(处理气体分流供给装置)中，为了将流体控制装置或流路形成区块(下部机体)小型化，当欲使V字流路中的两个流路的间隔变得狭窄时，上述两个流路所成的角度变小。若这样使流路之间的角度变小，则流路折返的部分的有效截面积变小，压力损失变大，流体变得难以流动。

本发明鉴于上述技术问题而作，其目的在于，提供一种即便将流路形成区块或流体控制装置小型化、也能够确保流路的有效截面积的流路形成区块。

本发明的某一方式所涉及的流路形成区块具备：第一区块；第二区块，其被安装于第一区块，且具有第一流路以及第二流路；垫片，其被设置于第一区块与第二区块之间，且对第一区块和第二区块之间进行密封，第二区块具有被形成于与垫片对置的面、并将第一流路和第二流路连通的连通部，垫片具有被形成于与连通部对置的位置的凹部。

根据该方式，第一流路和第二流路除了通过连通部以外，也能够通过凹部而连通。藉此，即便第一流路和第二流路所成的角度变小，也能够确保第一流路和第二流路连接的部分处的流路的有效截面积。藉此，能够将流路形成区块和流体控制装置小型化。

附图说明

图1为本发明的实施方式所涉及的流体控制装置的分解立体图。

图2为本发明的实施方式所涉及的第一区块的立体图。

图3为本发明的实施方式所涉及的流体控制装置的俯视图。

图4为本发明的实施方式所涉及的流体控制装置的侧视图。

图5为沿着图3的V-V线的剖视图。

图6为本发明的实施方式所涉及的流体形成区块的主要部分的部分剖视图。

具体实施方式

以下，参照附图，对本发明的实施方式进行说明。

本实施方式的流体控制装置100被用于半导体制造装置(CVD装置、溅镀装置、蚀刻装置等)中的处理气体以及冲洗气体(purge gas)的供给单元。

如图1、图3以及图4所示，流体控制装置100具备流路形成区块1、和被安装在流路形成区块1的多个阀装置2、3、4、5、6。阀装置2、3、4、5、6为通过操作压力的供给而工作的气动阀。另外，阀装置2、3、4、5、6可以为常闭型，也可以为常开型。另外，阀装置2、3、4、5、6具有金属膜片以作为阀体。

流路形成区块1具备：作为第一区块的区块10；被安装在区块10的区块20；被安装在区块10的作为第二区块的区块30；被安装在区块10的作为第二区块的区块40；被设置于区块10与区块20、30、40之间且对区块10与区块20、30、40之间进行密封的多个垫片50、51。区块20、30、40通过螺栓60而被安装在区块10。此外，由于区块30以及区块40为相同的结构，因此，以下仅对区块30进行具体说明，省略对于区块40的说明。