[发明专利]涂覆设备

说明书

本发明涉及一种涂覆设备，具体涉及一种原子层沉积设备。根据原子层沉积设备，可以用不同种类的物质连续涂覆粉末颗粒的表面。

技术领域

本发明涉及一种涂覆设备，例如原子层沉积设备，具体地，涉及一种用于粉末涂覆的原子层沉积设备，该原子层沉积设备应用于通过形成气流进行沉积的各种沉积法，例如化学气相沉积法、分子层沉积法以及其组合法。

本说明书基于韩国专利申请第10-2019-0012719号(2019年1月31日)要求优先权权益，并且在本说明书中包括相应的韩国专利文献中公开的所有内容作为本说明书的一部分。

背景技术

原子层沉积(ALD)技术是通过顺序地以气相提供化学材料而在基板上形成膜的技术，并且被应用于各种领域。

在粉末颗粒的表面上进行保形涂覆的必要性正在大为显现。例如，为了用保护层涂覆电池活性材料颗粒或催化剂，需要超薄涂覆技术，该技术使得现有颗粒的耐久性和性能能够改善而不会降低现有颗粒的性能。

为了进行超薄的保形涂覆，将使用原子层沉积法的涂覆技术应用于颗粒的表面。因为能够通过控制反应周期来进行厚度控制和精确控制，并且当交替喷射反应源气体时由于表面反应而进行涂覆以获得高度保形的涂层性能，因此原子层沉积法是用于在粉末颗粒的表面进行超薄膜涂覆的最合适的技术。

然而，现有的用于在粉末颗粒的表面上进行原子层沉积的涂覆设备适用于单一材料涂覆，因此需要用于以不同种类的材料连续涂覆的设备。

发明内容

技术问题

本发明旨在提供一种涂覆设备，其能够用不同种类的材料连续地涂覆粉末颗粒的表面。

技术方案

本发明的一个方面提供了一种涂覆设备，该涂覆设备包括：外腔室，包括旋转轴；一个或多个反应器，设置在外腔室中，连接到旋转轴，设置为可移动到外腔室中的第一位置和第二位置，并且包括粉末容纳空间；第一沉积部，包括：第一供应部和第一泵送部，第一供应部被设置为可拆卸地耦接到位于外腔室中的第一位置处的反应器，并且当第一供应部耦接到反应器时将一种以上源气体喷射到容纳空间中以形成第一沉积层，第一泵送部可拆卸地耦接到与第一供应部连接的反应器并且对容纳空间进行排气；以及第二沉积部，包括：第二供应部和第二泵送部，第二供应部可拆卸地耦接到位于外腔室中的第二位置处的反应器，并且当第二供应部耦接到反应器时将一种以上源气体喷射到容纳空间中以形成第二沉积层，第二泵送部可拆卸地耦接到与第二供应部连接的反应器并且对容纳空间进行排气。

有益效果

如上所述，根据本发明的至少一个实施例的涂覆设备具有以下效果。

能够通过原子层沉积法用不同种类的材料连续地涂覆粉末颗粒的表面。

具体地，由于反应器旋转以围绕旋转轴移动到沉积位置，所以能够用不同种类的材料连续地涂覆粉末颗粒的表面。

另外，在将相同的粉末颗粒装入多个反应器中的情况下，由于在各个反应器中沉积不同的材料，因此能够用不同种类的材料同时涂覆相同的粉末颗粒。

另外，在将不同的基材装入多个反应器中的情况下，能够在各个反应器中用相同或不同材料进行涂覆。

附图说明

图1是示出根据本发明的一个实施例的涂覆设备的示意图。

图2是用于描述反应器在外腔室中的移动的示意图。

图3是示出根据本发明的一个实施例的涂覆设备的一种操作状态的示意图。

图4是示出本发明的一个实施例的涂覆设备的主要部件的示意图。

具体实施方式