[实用新型]一种反应腔装置

权利要求书

1.一种反应腔装置，其特征在于，包括：

反应腔主体；

位于所述反应腔主体内的晶圆承载平台，所述晶圆承载平台的表面适于放置晶圆；

环绕所述晶圆承载平台的缓冲环，所述缓冲环适于在垂直于晶圆承载平台上表面的方向上进行移动。

2.根据权利要求1所述的反应腔装置，其特征在于，所述缓冲环中具有开口；所述开口自所述缓冲环的内壁至所述缓冲环的外壁贯穿所述缓冲环。

3.根据权利要求2所述的反应腔装置，其特征在于，若干开口沿着所述缓冲环的周向排布。

4.根据权利要求3所述的反应腔装置，其特征在于，所述开口在所述缓冲环的侧壁的投影形状为条状，所述条状的延伸方向垂直于若干开口的排布方向。

5.根据权利要求2所述的反应腔装置，其特征在于，所述开口在所述缓冲环的侧壁的投影形状沿着所述缓冲环的周向延伸；自所述缓冲环的顶部至所述缓冲环的底部的方向排布有多个开口。

6.根据权利要求2所述的反应腔装置，其特征在于，所述开口在所述缓冲环的侧壁的投影形状为孔状。

7.根据权利要求2所述的反应腔装置，其特征在于，所述缓冲环为石英缓冲环、陶瓷缓冲环、裸铝缓冲环或阳极氧化铝缓冲环。

8.根据权利要求1所述的反应腔装置，其特征在于，所述缓冲环为多孔结构材料缓冲环。

9.根据权利要求1所述的反应腔装置，其特征在于，所述缓冲环的侧壁垂直于所述晶圆承载平台的上表面。

10.根据权利要求1所述的反应腔装置，其特征在于，所述缓冲环的侧壁与所述晶圆承载平台的上表面之间的夹角为钝角，所述钝角小于或等于120度。

11.根据权利要求1所述的反应腔装置，其特征在于，还包括：位于所述缓冲环的底部且与所述缓冲环的底面接触的高度调节器；高度控制器，所述高度控制器适于控制所述高度调节器对所述缓冲环在纵向上的位置进行调节。

12.根据权利要求1所述的反应腔装置，其特征在于，还包括：位于所述反应腔主体上方的感性耦合射频单元；所述反应腔主体的顶部设置有隔离栅网；所述感性耦合射频单元位于所述隔离栅网的上方；贯穿所述反应腔主体的底壁的出气口。