[实用新型]一种分架式晶圆清洗设备用内部晶圆辅助翻滚机构有效

专利信息
申请号: 202022189499.9 申请日: 2020-09-29
公开(公告)号: CN213670789U 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 钱诚;童建;吴清 申请(专利权)人: 无锡亚电智能装备有限公司
主分类号: B08B3/06 分类号: B08B3/06;H01L21/67;F26B21/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214000 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 架式 清洗 备用 内部 辅助 翻滚 机构
【说明书】:

实用新型涉及一种分架式晶圆清洗设备用内部晶圆辅助翻滚机构,包括箱体、框架和清洗池,所述箱体的内部中间固定安装有清洗池,清洗池的内部顶端设有滚筒,滚筒的表面转动安装有挡板,滚筒的两端固定安装安装有轴杆,轴杆转动安装在框架的内部,所述框架的顶端一侧固定安装有第一马达,第一马达的输出端通过皮带转动连接轴杆,所述框架的顶端中间固定连接在液压缸的输出端,且液压缸固定安装在箱体的外部顶端。本实用新型利用液压缸升起或者降下滚筒,将装有晶圆的滚筒在清洗池内进行进出,而滚筒可由马达转动,这样可让滚筒内部的晶圆能清洗多面,在滚筒升起后由一侧的风扇对其进行吹风,使其快速风干,从而达到了便于工作人员使用的效果。

技术领域

本实用新型涉及晶圆清洗设备领域,具体涉及一种分架式晶圆清洗设备用内部晶圆辅助翻滚机构。

背景技术

晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆;在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC产品。晶圆的原始材料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅,其纯度高达99.999999999%。

晶圆表面附着大约2um的Al2O3和甘油混合液保护层,在制作前必须进行化学刻蚀和表面清洗,目前的晶圆的清洗采用放置在清洗液池内进行清理,利用旋转流动的清洗液对晶圆表面进行洗刷,但是放置在内的晶圆为固定式,不便于工作人员进行翻面清洗,从而降低清洗的效率。

实用新型内容

本实用新型提供了一种分架式晶圆清洗设备用内部晶圆辅助翻滚机构,解决了以上所述的技术问题。

本实用新型解决上述技术问题的方案如下:一种分架式晶圆清洗设备用内部晶圆辅助翻滚机构,包括箱体、框架和清洗池,所述箱体的内部中间固定安装有清洗池,清洗池的内部顶端设有滚筒,滚筒的表面转动安装有挡板,滚筒的两端固定安装安装有轴杆,轴杆转动安装在框架的内部,所述框架的顶端一侧固定安装有第一马达,第一马达的输出端通过皮带转动连接轴杆,所述框架的顶端中间固定连接在液压缸的输出端,且液压缸固定安装在箱体的外部顶端。

本实用新型的有益效果:

1、本实用新型通过设置滚筒,使待清洗的晶圆可以放置在内,达到了提供放置清洗位置的效果,通过设置第一马达,使滚筒可以进行转动,达到了转动帮助滚筒内放置的晶圆进行翻面的效果。

2、本实用新型通过设置液压缸,使框架内转动安装的滚筒可以进行升降,达到了降下让滚筒浸入清洗池内和升起至风干区域进行风干的效果。

在上述技术方案的基础上,本实用新型还可以做如下改进。

进一步,所述箱体的内部一侧嵌入安装有第一风扇,箱体的内部另一侧嵌入安装有第二风扇。

采用上述进一步方案的有益效果是:第一风扇为进风扇,而第二风扇为抽风扇,通过第一风扇和第二风扇的配合,使箱体内可以产生流动风,达到了产生流动风并让滚筒内放置的晶圆进行风干的效果。

进一步,所述清洗池的内部中间固定安装有网板,清洗池的内部底端中间设有扇叶,扇叶固定安装在第二马达的输出端,且第二马达固定安装在箱体的内部底端。

采用上述进一步方案的有益效果是:网板的安装则是隔开扇叶和滚筒,防止互相碰到造成损坏,而通过扇叶和第二马达的配合,使清洗池内清洗液可以产生转动,达到了旋转清洗液让其流动清洗滚筒内部放置的晶圆效果。

进一步,所述清洗池的内部底端一侧连接安装有管道,管道的内部固定安装有阀门。

采用上述进一步方案的有益效果是:管道的安装使清洗池内的清洗液可以进行排出更换,而阀门的安装则是控制管道的开和关。

进一步,所述箱体的外部前表面转动安装有箱门,箱门的中间嵌入安装有可视窗。

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