[实用新型]一种用于CVD涂层设备用的圆筒型加热罩有效
| 申请号： | 202022130139.1 | 申请日： | 2020-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN213232485U | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | 王彤 | 申请（专利权）人： | 常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/52 |
| 代理公司： | 上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙) 31355 | 代理人： | 雍常明 |
| 地址： | 213100 江苏省常州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 cvd 涂层 备用 圆筒 加热 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于CVD涂层设备用的圆筒型加热罩，包括筒体(3)，其特征在于：所述筒体(3)的顶部固定安装有顶盖(1)，所述顶盖(1)的顶部固定安装有吊环(2)，所述筒体(3)的底部固定安装有支脚(11)、下落缓冲弹簧座(12)与底板(13)，所述筒体(3)的外侧分别固定安装有上吊装孔板(4)、下吊装孔板(5)、定位导向孔板(6)、侧边隔热挡板(7)、集成电源接线盒(8)、双组测温热电偶(9)与位置感应开关盒(10)，所述筒体(3)的外侧活动安装有测温热电偶保护罩(15)，所述筒体(3)的内部活动安装有加热丝组件(14)。
2.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备用的圆筒型加热罩，其特征在于：所述双组测温热电偶(9)位于测温热电偶保护罩(15)的内部。
3.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备用的圆筒型加热罩，其特征在于：所述加热丝组件(14)与双组测温热电偶(9)活动连接。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
