[实用新型]镀膜设备

说明书

本实用新型公开一镀膜设备，其中所述镀膜设备包括一镀膜装置和一原料气化装置，所述镀膜设备用于通过等离体子气相沉积的方式形成膜层，所述原料气化装置包括：一第一级气化部件，所述第一级气化部件用于将送入的原料进行初级气化；一第二级气化部件，所述第二级气化部件用于将第一级气化部件初级气化后的原料进一步气化；和一进料控制部，其中所述进料控制部用于送入需要被气化的原料，所述进料控制部控制地连通所述第一级气化部件，由此提高原料的气化效率。

技术领域

本实用新型涉及镀膜、涂层技术领域，更进一步，涉及一原料气化装置和镀膜设备，所述原料气化装置为镀膜、涂层设备提供蒸气原料。

背景技术

等离子体镀膜技术由于其具有成膜质量好等众多优势，被广泛应用于航空航天、汽车制造、机械重工以及五金工具制造等众多领域。近些年来，尤其智能触屏手机等各种电子设备的快速发展，等离子体镀膜技术也被逐渐应用于电子设备领域，并且产生良好的效果。

在进行等离子体镀膜工艺时，需要通过一气化设备将液相的反应原料气化后送入镀膜装置，举例地，在进行镀膜时，将镀膜装置的内部抽真空，通过负压将气化设备气化后的原料吸入镀膜装置中，而后在镀膜装置中的基体表面，通过等离子体气相沉积的方式在基体表面形成膜层，因此气化的程度影响镀膜沉积的效果。

发明人发现现有的气化设备存在以下不足之处：

首先，现有的气化设备通常只有单个气化腔室，在使用的过程中，单个气化腔室的气化效率极低，经常出现化学原料气化不充分的问题，使得气化腔室内残留的液态化学原料或者未充分气化的化学原料被吸入镀膜设备中，从而导致镀膜厚度不均匀甚至镀膜失效的问题。

其次，液态的化学原料进入气化设备后，直接被加热蒸发，化学原料容易产生堆积而使得气化不充分。

第三，不同状态的化学原料聚集在同一个蒸发腔室中，一次性地进行加热蒸发，使得蒸发效果较差，也就是说，气化效率低。

实用新型内容

本实用新型的一个优势在于提供一原料气化装置和镀膜设备，其通过延长气化路径的方式来提高对液态化学原料的气化效率。

本实用新型的另一个优势在于提供一原料气化装置和镀膜设备，其通过设置多级的气化部件来延长气化路径。

本实用新型的另一个优势在于提供一原料气化装置和镀膜设备，其中所述原料气化装置包括至少两级气化部件，两级所述气化部件局部地连通，使得两个气化部件能够相对独立地进行分级气化。

本实用新型的另一个优势在于提供一原料气化装置和镀膜设备，其中两个气化室分别被设置加热部件，使得对不同状态或者说不同气化程度的原料相对应地分别进行加热气化，从而提高气化效率。

本实用新型的另一个优势在于提供一原料气化装置和镀膜设备，其中在一级加热时，先对进入的液体原料进行较低温度的预热，而后进行较高温度的加热，使得化学原料能够逐渐地从低温到高温气化，进一步地提高气化程度。

本实用新型的另一个优势在于提供一原料气化装置和镀膜设备，其中进料方向、多级气化方向分别按不同方向布置，在延长气化路径的同时减少空间的占用。

本实用新型的另一个优势在于提供一原料气化装置和镀膜设备，其中在第一级气化部件中原料入口位于较高位置，气化出口位于较低位置，使得液态的化学原料能够充分进入第一级气化部件，避免出现化学原料堆积或者堵塞。

本实用新型的另一个优势在于提供一原料气化装置和镀膜设备，其中在第二级气化部件中入口位于较低位置，出口位于较高位置，使得充分气化后的原料被送出，从而减少或者避免气化不充分的原料流出。

本实用新型的另一个优势在于提供一原料气化装置和镀膜设备，其中相邻的两级气化部件之间隔热地连接，使得各级气化部件能够独立地加热。