[实用新型]一种硅片自动上粉的装置

说明书

本实用新型提供了一种硅片自动上粉的装置。该装置包括：传输设备、刮粉板、上粉设备；其中，上粉设备用于将玻璃糊涂覆在硅片上，上粉设备包括超声设备和储罐，储罐用于盛装玻璃糊，超声设备用于超声处理储罐内的材料；传输设备用于传送硅片，用于将硅片送入储罐的玻璃糊内，并将上粉后的硅片由玻璃糊中带离，经过刮粉板，去除上粉后硅片表面多余的玻璃糊。本实用新型的硅片自动上粉装置的玻璃膜涂覆均匀，对钝化区域保护较好，自动化程度高，效率高。

技术领域

本实用新型涉及一种制备玻璃钝化二极管时，硅片的自动上粉装置，属于玻璃钝化二极管制备技术领域。

背景技术

GPP是玻璃钝化类器件的统称，现泛指玻璃钝化二极管。玻璃钝化二极管主要是以单晶硅片为原材料，对单晶硅片进行扩散、光刻蚀刻、刮涂、清晰、开沟、去胶、上粉、钝化、烧结、点测、切割、裂片等加工工序得到的。

在玻璃钝化二极管的制备过程中，上粉是直接影响玻璃钝化二极管的品性的重要步骤。现有的硅片上粉方法主要有手术刀法、电泳法、光阻法。

其中，手术刀法是使用塑料棒粘取玻璃糊，通过刀片将玻璃糊刮至槽内，后续进行低温去除有机物，擦拭表面玻璃膜，然后进行高温烧结。该方法的涂覆不均匀，表面易擦伤，属于劳动密集型作业模式，劳动强度大。

电泳法是通过超声的方式，将玻璃粉均匀混合在丙酮内，通过灯管照射玻璃粉，提高玻璃粉带电粒子活性，并在电场作用下，定向往裸露的硅运动，进而覆盖槽内，后续高温烧结，起到钝化作用。该方法的槽边缘存在突台，影响封装及后需产品工艺过程(突台引起光刻板破损)，工艺过程对硅片表面要求较高，易出现不需要电泳上的区域电泳上，玻璃膜厚度不均匀。

光阻法是将玻璃粉与光刻胶混合搅拌均匀，通过旋涂的方式，均匀涂覆在硅片表面及槽内，通过光刻曝光、显影的方式，去除不需要的玻璃膜及光刻胶，并通过后续的烧结，去除残留玻璃膜内光刻胶，实现玻璃膜的钝化。但是，该方法的工艺过程复杂，光刻过程不易控制。

实用新型内容

鉴于现有技术存在的上述问题，本实用新型的目的在于提供一种玻璃膜涂覆均匀，对钝化区域保护较好，表面不易擦伤的硅片自动上粉的装置。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种硅片自动上粉的装置，该装置包括：传输设备、刮粉板、上粉设备；其中，

上粉设备用于将玻璃糊涂覆在硅片上，上粉设备包括超声设备和储罐，储罐用于盛装玻璃糊，超声设备用于超声处理储罐内的材料；

传输设备用于传送硅片，用于将硅片送入储罐的玻璃糊内，并将上粉后的硅片由玻璃糊中带离，经过刮粉板，去除上粉后硅片表面多余的玻璃糊。

在本实用新型的一具体实施方式中，传输设备包括两个转动轮和传送带，转动轮带动传送带传动；传送带用于传送硅片。

在本实用新型的一具体实施方式中，传送带为聚四氟乙烯制成的皮带。

在本实用新型的一具体实施方式中，将硅片固定在传送带上，固定的方式可以为真空吸附或机械夹持。

在本实用新型的一具体实施方式中，超声设备主要用于去除硅片槽内的气泡，并填补均匀的玻璃糊至硅片的沟槽内。具体地，储罐可以设置在超声设备内部。其中，储罐可以为石英缸。

在本实用新型的一具体实施方式中，储罐设置在两个转动轮之间。储罐内设置有至少两个滑轮，滑轮用于使传送带经过玻璃糊。

在本实用新型的一具体实施方式中，刮粉板设置在转动轮与储罐之间，刮粉板的长度为12cm-15cm，宽度为1cm-2cm，高度为1.5cm-3cm。

在本实用新型的一具体实施方式中，刮粉板可以为具有弹性的塑胶板。