[实用新型]晶圆电镀设备有效
申请号: | 202020926350.1 | 申请日: | 2020-05-27 |
公开(公告)号: | CN213086155U | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 王振荣;刘红兵 | 申请(专利权)人: | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
主分类号: | C25D17/00 | 分类号: | C25D17/00;C25D7/12;C25D21/10;C25D21/08 |
代理公司: | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人: | 李强 |
地址: | 201616 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电镀 设备 | ||
本实用新型提供一种晶圆电镀设备。该晶圆电镀设备包括:电镀液槽,所述电镀液槽设置有搅拌装置,用于搅拌电镀液;盖子,所述盖子盖接在所述电镀液槽上;晶圆,所述晶圆可旋转地安装在所述盖子上;和第一驱动机构,所述第一驱动机构与所述晶圆传动连接,用于驱动所述晶圆周向旋转。本实用新型提供的晶圆电镀设备中,电镀过程中,搅拌装置可搅拌电镀液槽中的电镀液,电镀液分布均匀,第一驱动机构可驱动晶圆旋转,金属离子可更均匀地电镀在晶圆表面,避免由于电势线不均匀分布导致金属离子不均匀电镀在晶圆表面,使用方便,电镀效果好。
技术领域
本实用新型涉及一种晶圆电镀设备。
背景技术
有些集成电路零部件生产过程中需要电镀,而且对电镀的精度要求非常高。现有技术中的晶圆电镀设备,电镀液及的电势线分布不均匀,其分布差异较大,导致电镀效果差,金属离子不能均匀电镀在晶圆表面。
实用新型内容
本实用新型的第一个目的是为了克服现有技术中的不足,提供一种晶圆电镀设备。
为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案实现:
根据本实用新型的第一方面,提供了一种晶圆电镀设备。该晶圆电镀设备包括:
电镀液槽,所述电镀液槽设置有搅拌装置,用于搅拌电镀液;
盖子,所述盖子盖接在所述电镀液槽上;
晶圆,所述晶圆可旋转地安装在所述盖子上;和
第一驱动机构,所述第一驱动机构与所述晶圆传动连接,用于驱动所述晶圆周向旋转。
可选地,所述盖子包括晶圆夹持件,所述第一驱动机构包括第一传动轴;
所述晶圆周向固定在所述晶圆夹持件上,所述晶圆夹持件周向固定在所述第一传动轴上;
所述第一驱动机构与所述第一传动轴传动连接,用于带动所述第一传动轴旋转,从而带动所述晶圆夹持机构和所述晶圆旋转。
可选地,所述盖子还包括安装座,所述安装座可盖接在所述电镀液槽上;所述第一驱动机构安装在所述安装座上。
可选地,所述第一驱动机构包括第一旋转电机、第一主动轮和第一从动轮;
所述第一旋转电机的第一输出轴周向固定在所述第一主动轮上,用于带动所述第一主动轮旋转;
所述第一主动轮通过传动带带动所述第一从动轮旋转;
所述第一从动轮周向固定在所述第一传动轴上,用于带动所述第一传动轴旋转。
可选地,所述晶圆夹持件上设置有晶圆容置槽,所述晶圆固定安装在所述晶圆容置槽中。
可选地,所述搅拌装置包括:
第三驱动机构;和
可转动的承载装置;所述可转动的承载装置上安装有搅拌件;
其中,所述第三驱动机构与所述承载装置传动连接。
可选地,所述搅拌件包括第一搅拌件,所述第一搅拌件可转动地安装在所述承载装置上;
所述搅拌装置还包括第四驱动机构,所述第四驱动机构与所述第一搅拌件传动连接。
可选地,所述第四驱动机构为内齿轮;所述内齿轮通过偶数个行星齿轮与所述第一搅拌件传动连接。
可选地,所述行星齿轮包括第一行星齿轮和第二行星齿轮;所述内齿轮与所述第二行星齿轮相啮合,所述第二行星齿轮与第一行星齿轮相啮合;
所述承载装置上固定设置有第一安装架;
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