[发明专利]一种防伪标签及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011593887.1 申请日: 2020-12-29
公开(公告)号: CN112613591A 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 胡立伟;胡祖元;陈聪;苗春龙 申请(专利权)人: 苏州印象镭射科技有限公司
主分类号: G06K19/077 分类号: G06K19/077
代理公司: 上海硕力知识产权代理事务所(普通合伙) 31251 代理人: 林晓青
地址: 215128 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 防伪 标签 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种防伪标签,其特征在于,包括依次层叠的基材层、光敏高分子层、树脂层、信息层、金属层和胶层,所述光敏高分子层设置有激光光刻图像,所述信息层设置有光学微纳结构。

2.根据权利要求1所述的防伪标签,其特征在于:

所述基材层的厚度为20-30um,所述光敏高分子层的分辨率小于5um,所述树脂层的厚度为1-1.2um,所述光学微纳结构的光栅纹理条纹周期为200-300nm,所述金属层的厚度为30-40nm。

3.根据权利要求1所述的防伪标签,其特征在于:

所述基材层为聚对苯二甲酸乙二醇酯,所述胶层为压敏胶或热熔胶;

所述胶层上方还设置有离型纸层。

4.根据权利要求1所述的防伪标签,其特征在于:

所述光学微纳结构具有光学效果,所述光学效果包括激光再现、同位异象、正交光栅、衍射浮雕、菲涅尔透镜、真彩色、三维立体、微缩图文中的至少一种或多种的结合。

5.一种如权利要求1-4中任意一项所述的防伪标签的制备方法,其特征在于,包括步骤:

将光敏高分子涂料均匀涂布在基材上,通过烘烤后形成光敏高分子层;

将稀释后的树脂涂布在光敏高分子层上,通过烘烤后形成树脂层;

将金属材料紧密附着在树脂层上,形成金属层;

将预先设计好的微纳纹理结构复制在金属层上,形成光学微纳结构;

将胶体涂布在金属层上,通过烘烤后形成胶层;

根据光学微纳结构纹理图像排列周期长度定位,激光光刻设备的CCD高速抓拍光学微结构纹理图像靶标,并对光学微纳结构纹理图像和激光光刻图像进行位置匹配对位;

激光光刻设备输出激光在光敏高分子层上进行图像光刻,获得激光光刻图像。

6.根据权利要求5所述的防伪标签,其特征在于,所述的将光敏高分子涂料均匀涂布在基材上,通过烘烤后形成光敏高分子层,具体包括步骤:

采用稀释固含量为10%的光敏高分子涂料通过网纹辊微凹涂布方式均匀涂布在聚对苯二甲酸乙二醇酯的基材上,经过涂布机烘道烘烤挥发后获得涂布量为0.6-0.7g/㎡的光敏高分子层。

7.根据权利要求5所述的防伪标签,其特征在于,所述将稀释后的树脂涂布在光敏高分子层上,通过烘烤后形成树脂层,具体包括步骤:

通过网纹辊涂布设备在光敏高分子层上通过网纹辊涂布稀释固含量为20%树脂,经过涂布机烘道烘烤挥发后获得涂布量为0.8-1g/㎡的树脂层;

通过微纳结构模压复制设备把预先设计好的微纳纹理结构通过压印方式复制在镀膜金属层上,获得的微纳纹理结构。

8.根据权利要求5所述的防伪标签,其特征在于,所述的根据光学微纳结构纹理图像排列周期长度定位,激光光刻设备的CCD高速抓拍光学微结构纹理图像靶标,并对光学微纳结构纹理图像和激光光刻图像进行位置匹配对位,具体包括步骤:

通过间歇式定位拖料系统根据光学微纳结构纹理图像排列周期长度定位移动至激光器振镜下方,激光光刻设备的CCD高速抓拍光学微结构纹理图像靶标,系统对光学微纳结构纹理图像和激光光刻图像进行位置匹配对位,使对位精度维0.1mm以内。

9.根据权利要求5所述的防伪标签,其特征在于,所述的激光光刻设备输出激光在光敏高分子层上进行图像光刻,获得激光光刻图像,具体包括步骤:

激光光刻设备输出脉冲频率为1000KHZ激光,同时激光光刻设备的振镜根据预先设定的图像进行两维方向摆动,以激光打点的方式以激光光斑的30%重叠周期在标签材料的光敏高分子层进行图像光刻,从而获得对位精度在0.1mm以内的光学微纳结构纹理图像和激光光刻图像。

10.根据权利要求5所述的防伪标签,其特征在于,还包括步骤:

激光光刻图像通过软件算法,以可变数据形式进行图像转换,使得不同的光学微纳结构结合定位激光光刻的防伪标识的图文信息不一致。

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